close

Вход

Забыли?

вход по аккаунту

?

Патент BY4367

код для вставкиСкачать
ОПИСАНИЕ
ИЗОБРЕТЕНИЯ
К ПАТЕНТУ
РЕСПУБЛИКА БЕЛАРУСЬ
(19)
BY (11) 4367
(13)
C1
(51)
(12)
7
B 05B 7/20
НАЦИОНАЛЬНЫЙ ЦЕНТР
ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ
СОБСТВЕННОСТИ
(54)
ПРИСТАВКА К ПЛАЗМОТРОНУ ДЛЯ НАПЫЛЕНИЯ
(21) Номер заявки: a 19990378
(22) 1999.04.21
(46) 2002.03.30
(71) Заявитель: Белорусский
государственный
университет транспорта (BY)
(72) Авторы: Родченко Д.А.; Цырлин М.И. (BY)
(73) Патентообладатель:
Белорусский
государственный университет транспорта (BY)
(56)
SU 656669, 1979, SU 927330, 1982.
(57)
Изобретение относиться к области машиностроения и приборостроения, а именно к устройствам для нанесения покрытий из композиционных материалов плазменной струей.
Приставка к плазмотрону для напыления состоит из корпуса, который изолирован от сопла прокладкой. В
диаметрально расположенных отверстиях корпуса фиксируются ползушки со штуцерами подачи напыляемых материалов винтами. Наклон самих штуцеров к оси сопла фиксируется винтами с возможностью перемещения под углом от 0° до 180° относительно направления плазменной струи.
Изобретение относится к области машиностроения и приборостроения, а именно к устройствам для нанесения покрытий из композиционных материалов плазменной струей.
Известна приставка к горелке для напыления, содержащая соосную горелке цилиндрическую трубу и охватывающий ее с зазором кожух, выполненный с сужающейся к выходу полостью, оканчивающейся кольцевым соплом [1]. Недостатком этого устройства является осаждение напыляемого материала на внутренней
поверхности трубы, а также невозможность напыления композиционных покрытий.
Наиболее близким по технической сущности является сопло для плазменной горелки, представляющее
собой приставку к плазмотрону, содержащую электрически изолированный от сопла с отверстием для подачи
BY 4367 C1
напыляемого материала корпус [2]. Однако данное устройство не может быть использовано для нанесения
легкоплавких материалов, в том числе полимерных материалов, поскольку предусмотрен ввод распыляемого
материала через сопло в высокотемпературную зону плазменной струи и не предполагается возможность его
ввода в другие температурные зоны плазменного потока. При этом устройство не позволяет изменять угол и
дистанцию ввода дисперсионных материалов в плазменную струю, что существенно для процесса напыления
полимерных материалов. Кроме того, при одностороннем вводе дисперсного материала в плазменную струю
происходит смещение транспортирующего газодисперсного потока с несущим потоком плазмы, что неизбежно сказывается на структуре формируемого покрытия.
Задачей заявляемого изобретения является расширение номенклатуры используемых материалов и получение высококачественного наносимого покрытия.
Технический результат, который может быть достигнут, заключается в том, что приставка к плазмотрону
состоит из корпуса, который электрически изолирован от сопла плазмотрона и имеет отверстия. В диаметрально расположенных отверстиях установлены с помощью винтов с возможностью перемещения вдоль
собственной оси ползушки, в пазах которых установлены штуцеры подачи напыляемого материала. Штуцеры закреплены в ползушках винтами с возможностью перемещения под углом от 0° до 180.° Относительно
направления плазменной струи.
На чертеже изображено предлагаемое устройство.
Приставка к плазмотрону для напыления состоит из корпуса 1, изолированного от сопла 2 прокладкой 3.
В отверстиях корпуса фиксируются ползушки 4 со штуцерами подачи напыляемых материалов 5 винтами 6.
Наклон самих штуцеров к оси сопла фиксируется винтами 7.
Работа устройства осуществляется следующим образом.
Проходя через возбуждаемую внутри плазмотрона электрическую дугу, плазмообразующий газ ионизируется и в виде плазменной струи истекает из сопла 2, и поступает в корпус приставки 1. В зависимости от
марки распыляемого материала, а также от цели проведения процесса штуцеры 5 выставляются при помощи
ползушек 4 на определенном расстоянии от сопла 2 и угла к оси плазменной струи. Напыляемый материал через встречно расположенные штуцеры 5 подается в плазменную струю.
Такое выполнение устройства позволяет наряду с напылением тугоплавких материалов, вводимых через
сопло, производить напыление легкоплавких материалов с оптимальными технологическими режимами их
ввода в плазменную струю, варьируя угол и дистанцию, вводя их в менее нагретую часть плазменной струи.
Возможность двухсторонней загрузки плазменного потока дисперсным материалом, благодаря встречному
расположению ползушек, улучшает равномерность распределения порошка в факеле плазменной струи и
снижает его расход. Одновременное распыление различных по свойствам материалов с оптимальными дистанциями их ввода в плазменную струю создает возможность формировать композиционные покрытия.
Таким образом, использование предлагаемой приставки к плазмотрону позволяет расширить номенклатуру используемых материалов, формировать композиционные покрытия, улучшить качество покрытий.
Источники информации:
1. А.с. СССР 927330, МПК В05В 7/20, 1982.
2. А.с. СССР 656669, МПК В05В 7/20, 1979 (прототип).
1. Приставка к плазмотрону для напыления, содержащая электрически изолированный от сопла с отверстием для подачи напыляемого материала корпус, отличающаяся тем, что в корпусе выполнены не менее
чем два диаметрально расположенных отверстия, в каждом из которых установлены с возможностью перемещения вдоль собственной оси ползушки, в пазах которых установлены штуцеры для подачи напыляемого
материала.
2. Приставка по п. 1, отличающаяся тем, что штуцеры установлены с возможностью перемещения под
углом от 0° до 180° относительно направления плазменной струи.
Национальный центр интеллектуальной собственности.
220072, г. Минск, проспект Ф. Скорины, 66.
Документ
Категория
Без категории
Просмотров
0
Размер файла
103 Кб
Теги
by4367, патент
1/--страниц
Пожаловаться на содержимое документа