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[5][_]
Molecule
(37/ 130)
[6][_]
tungsten
(19)
[7][_]
tungsten carbide
(18)
[8][_]
hydrogen
(12)
[9][_]
platinum
(10)
[10][_]
graphite
(9)
[11][_]
nickel
(6)
[12][_]
hydrochloric acid
(4)
[13][_]
sulfuric acid
(3)
[14][_]
titanium
(3)
[15][_]
cobalt
(3)
[16][_]
tetrafluoroethylene
(3)
[17][_]
ethylene
(3)
[18][_]
chlorine
(2)
[19][_]
iron
(2)
[20][_]
tantalum
(2)
[21][_]
niobium
(2)
[22][_]
zirconium
(2)
[23][_]
chromium
(2)
[24][_]
boron
(2)
[25][_]
carbon
(2)
[26][_]
ruthenium
(2)
[27][_]
iridium
(2)
[28][_]
palladium
(2)
[29][_]
rhodium
(2)
[30][_]
nitric acid
(1)
[31][_]
titanium carbide
(1)
[32][_]
INCO
(1)
[33][_]
silicon
(1)
[34][_]
tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene
(1)
[35][_]
water
(1)
[36][_]
fluorine
(1)
[37][_]
ruthenium oxide
(1)
[38][_]
palladium chloride
(1)
[39][_]
ammonium
(1)
[40][_]
ammonium chloride
(1)
[41][_]
fluoroethylene-hexafluoropropylene
(1)
[42][_]
molybdenum
(1)
[43][_]
Physical
(44/ 55)
[44][_]
10 percent
(6)
[45][_]
1 g/m
(3)
[46][_]
0,5 mm
(2)
[47][_]
de 0,1 mm
(2)
[48][_]
de 150 g/l
(2)
[49][_]
30 mm
(2)
[50][_]
100 m
(1)
[51][_]
0,1 mm
(1)
[52][_]
0,5 V
(1)
[53][_]
0,02 mm
(1)
[54][_]
de 3 mm
(1)
[55][_]
de 20 cm
(1)
[56][_]
12 percent de
(1)
[57][_]
75 V
(1)
[58][_]
2,7 kg/h
(1)
[59][_]
90 mm
(1)
[60][_]
1 min
(1)
[61][_]
60 percent
(1)
[62][_]
10 g/m
(1)
[63][_]
de 140 m
(1)
[64][_]
200 h
(1)
[65][_]
de 60 g/m
(1)
[66][_]
28 percent
(1)
[67][_]
5 percent
(1)
[68][_]
2 mm
(1)
[69][_]
7,5 V
(1)
[70][_]
de 15 g/m
(1)
[71][_]
130 g/l
(1)
[72][_]
de 30 m
(1)
[73][_]
150 g/l
(1)
[74][_]
1000 h
(1)
[75][_]
de 50 g/m
(1)
[76][_]
de 5 percent
(1)
[77][_]
5 um
(1)
[78][_]
de 240 m
(1)
[79][_]
de 40 g/m
(1)
[80][_]
6,25 g/l
(1)
[81][_]
10 g
(1)
[82][_]
de 10 g/m
(1)
[83][_]
de 270 m
(1)
[84][_]
de 10 percent
(1)
[85][_]
de 1 g/m
(1)
[86][_]
9 percent
(1)
[87][_]
90 percent
(1)
[88][_]
Generic
(7/ 35)
[89][_]
acids
(14)
[90][_]
metal
(14)
[91][_]
oxide
(3)
[92][_]
organic acid
(1)
[93][_]
carbide
(1)
[94][_]
cation
(1)
[95][_]
hydrogens
(1)
[96][_]
Gene Or Protein
(4/ 12)
[97][_]
Etre
(9)
[98][_]
LEURS
(1)
[99][_]
Appa
(1)
[100][_]
Lic
(1)
[101][_]
Substituent
(2/ 3)
[102][_]
tetrafluoro
(2)
[103][_]
fluorochloro
(1)
[104][_]
Disease
(1/ 1)
[105][_]
Tic
(1)
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Publication
_________________________________________________________________
Number FR2513272A1
Family ID 1895037
Probable Assignee Permelec Electrode Ltd
Publication Year 1983
Title
_________________________________________________________________
FR Title CATHODE POUR L'ELECTROLYSE DE SOLUTIONS acidsET SON PROCEDE
DE PREPARATION
Abstract
_________________________________________________________________
L'INVENTION CONCERNE UNE CATHODE POUR L'ELECTROLYSE DE SOLUTIONS
acidsET SON PROCEDE DE PREPARATION
LA CATHODE EST CONSTITUEE D'UN SUBSTRAT METALLIQUE CONDUCTEUR DE
L'ELECTRICITE, D'UNE COUCHE DE REVETEMENT FORMEE PAR PULVERISATION
D'UNE MATIERE A ACTIVITE CATHODIQUE CONTENANT DU tungsten, DU tungsten
carbide OU UN DE LEURS MELANGES A RAISON DE 10 EN POIDS OU PLUS SUR LE
SUBSTRAT ET D'UNE COUCHE DE REVETEMENT FORMEE PAR IMPREGNATION DE 1 GM
OU PLUS D'UNE RESINE FLUOREE RESISTANT AUX ACIDES SUR LA SURFACE
EXTERIEURE DE LA COUCHE DE REVETEMENT EN MATIERE A ACTIVITE CATHODIQUE
acids
UN PROCEDE DE PRODUCTION DE CETTE CATHODE EST EGALEMENT DECRIT.
Description
_________________________________________________________________
13272
La presente invention concerne une cathode pour
l'electrolyse de solutions acidset son procede de preparation.
Plus particulierement, l'invention concerne une cathode ayant une
excellente durabilite dans l'electrolyse de solutions acides,
minerales ou organiques L'invention concerne ega- lement un procede
pour produire cette electrode qui comprend le revetement d'un substrat
metallique avec une substance a activite cathodique comprenant du
tungsten ou du tungsten carbide -comme
composant principal, par revetement par pulverisation, et impregna-
tion avec une resine fluoree resistant aux acides.
A ce jour, on a utilise classiquement le graphite comme cathode pour
l'electrolyse d'electrolytes acidscontenant de l'hydrochloric acid, de
l'sulfuric acid, de l'nitric acid, un organic acid ou un de leurs
melanges Le graphite est peu couteux et a une excellente resistance a
la corrosion ainsi qu'une excellente resistance a la fragilisation par
l'hydrogen Cependant, le graphite a pour inconvenient qu'il a non
seulement un potentiel electrique eleve pour la production d'hydrogen
et une conductivite electrique relativement faible, mais que, de plus,
a resistance mecanique et ses proprietes de mise en oeuvre sont
mediocres Le brevet de la'Republique Democratique Allemande n' 62 308
decrit la diminution de la tension d'electrolyse par emploi d'une
cathode ayant une faible surtension d'hydrogen que l'on prepare en
revetant du graphite avec du tungsten carbide ou du titanium carbide
par revetement par pulverisation avec un plasma Cependant, il n'est
pas possible d'eliminer les inconvenients du graphite lorsqu'on
l'utilise comme substrat de cathode D'autre part, on connalt divers
types de cathodes dans lesquels un substrat compose d'un
metal est revetu d'une matiere ayant une faible surtension d'hydro-
gene Par exemple, une cathode pour la production de chlorine et de
soude par electrolyse, dans laquelle un substrat de iron metallique
est revetu d'un metal en poudre ayant une faible surtension d'hydro-
gene par revetement par pulverisation avec une flamme, est decrite
dans la demande de brevet japonais publie non examinee, N O 32 832/77.
Dans cette cathode, bien que la resistance mecanique et les pro-
prietes de mise en oeuvre soient ameliorees du fait que le substrat
est en metal, des problemes se posent r la resistance a la corrosion $
percent
13272
n'est pas suffisante a l'emploi pratique lorsqu'on utilise la cathode
pour l'electrolyse des solutions acidsprecedemment decrites, et du
fait que le catholyte est une solution alcaline dans le cas
de la production du chlorine et de la soude par electrolyse.
L'invention permet de resoudre les problemes pre-
cedemment decrits.
L'invention a pour objet une cathode pour l'electro-
lyse presentant une excellente resistance mecanique et d'excellentes
proprietes de mise en oeuvre, une faible surtension d'hydrogen et une
excellente durabilite pour l'electrolyse des solutions acids
et un procede pour produire facilement une cathode ayant ces excel-
lentes caracteristiques d'electrode.
La cathode pour l'electrolyse de solutions acids
de l'invention comprend un substrat metallique conducteur de l'elec-
tricite, une couche de revetement formee par pulverisation faite d'une
matiere a activite cathodique contenant du tungsten, du
tungsten carbide ou un de leurs melanges, disposee sur le subs-
trat et une couche de revetement formee par impregnation faite d'une
resine fluoree resistant aux acides disposee sur la surface exterieure
de la couche de revetement de substance a activite cathodiquacids.
De plus, la cathode de l'invention est produite par formation d'une
couche de revetement sur le substrat de metal conducteur d'electricite
par revetement par pulverisation, avec une poudre de la substance a
activite cathodique precedemment decrite, impregnation de la surface
exterieure de la couche de revetement avec une resine fluoree
resistant aux acides de facon a laisser apparentes des portions de la
substance a activite cathodiquacids,
chauffage de la matiere ainsi produite et solidification de celle-ci.
L'invention va maintenant etre decrite de facon
detaillee.
On connait diverses matieres que l'on peut utiliser comme substrat
metallique dans l'invention,a condition qu'elles aient une bonne
conductivite de l'electricite et une bonne resistance a la corrosion
Le titanium, le tantalum, le niobium, le zirconium et les alliages les
contenant comme composants principaux, tels que Ti-Ta, Ti-Ta-Nb, etc,
le nickel et ses alliages tels que Ni-Cu (nom commercial: Monel
produit par INCO) et Ni-Mo (nom commercial Hastelloy produit par
Mitsubishi Metal Corporation), etc, conviennent particulierement bien
a l'emploi Comme le substrat est une matiere metallique, il est
possible de lui donner une forne appropriee telle que celle d'une
plaque, d'une plaque poreuse, d'une tige, d'un reseau ou d'une toile,
etc. Ensuite, on applique au substrat metallique par revetement par
pulverisation,une substance a activite cathodique comprenant du
tungsten, du tungsten carbide ou un de leurs melanges, comme composant
principal, par exemple a raison d'environ
10 percent en poids ou plus pour former une couche de revetement En
re-
vetant le substrat de tungsten ou de tungsten carbide ayant une faible
surtension d'hydrogen, par revetement par pulverisation, on forme une
surface convenablement rugueuse sur le substrat et on accroit sa
surface, si bien que la cathode presente une diminution
complementaire du potentiel electrique de production d'hydrogen.
De plus, le tungsten ou le tungsten carbide a pour effet d'accrottre
la durabilite de l'electrode par suite de son excellente
resistance a la corrosion et de son excellente resistance a la fra-
gilisation par l'hydrogen au cours de l'electrolyse de solutions
acidset est durable, ce qui permet de l'employer pendant une periode
prolongee tout en protegeant simultanement le substrat metallique. La
substance a activite que l'on applique par revetement par
pulverisation doit contenir environ 10 percent en poids ou plus de
tungsten, de tungsten carbide ou d'un de leurs
melanges dans la composition de revetement Si la teneur est infe-
rieure a environ 10 percent en poids, la cathode ne convient pas en
pra-
tic car on ne peut pas obtenir des effets suffisants en ce qui
concerne la diminution de la surtension d'hydrogen ou la durabilite.
On peut utiliser, pour produire ce revetement, des poudres de tungsten
ou de tungsten carbide du commerce pour revetement par pulverisation
Generalement, le tungsten carbide pour revetement par pulverisation
contient des substances ameliorant les proprietes de frittage lors du
revetement par pulverisation, telles que le nickel, le chromium, le
boron, le silicon, le iron, le carbon ou le cobalt, etc Des exemples
de compositions de carbide
de tungsten appropriees figurent dans le tableau 1 ci-apres.
TABLEAU 1
Poudre de WC pour revetement Composition par pulverisation n
Composants WC Co Ni Cr B Si Fe C
1 70,4 9,6 14,0 3,5 0,8 0,8 0,8 0,1
2 44,0 6,0 36,0 8,5 1,65 1,95 1,5 0,45
3 30,8 42,0 46,0 11,0 2,5 2,5 2,5 0,5
4 88 12
5 83 17
Le tungsten est commercialise sous forme d'une poudre metallique que
l'on peut utiliser seule ou melangee a une quantite appropriee de
poudre de tungsten carbide comme decrit dans le tableau 1 pour le
revetement par pulverisation Une taille appropriee des particules des
poudres peut etre d'environ 5 a 100 m, de preference de 10 a 50> Dans
la formation par pulverisation du revetement de substance a activite
cathodique, on peut ajouter ou appliquer des metals du groupe du
platinum, tels que le platinum, le ruthenium, l'iridium, le palladium
ou le rhodium ou leurs oxydes, tels que Ru 02, Ir 02, etc On prefere
que la quantite ajoutee de metal ou de l'oxide du groupe du platinum
decrit ci-dessus soit d'environ 0,01 A 10 percent en poids et que la
taille de ces particules soit d'environ 0, 1 /um a 0,1 mm L'addition
ou l'application des metals ou oxydes du groupe du platinum
contribuent nettement a une diminution de la surtension d'hydrogen,
meme lorsqu'on utilise les metals ou les oxydes du groupe du platinum
en une petite quantite De
plus, on peut-reduire le potentiel electrique de la production
d'hydro-
gene d'environ 0,2 a 0,5 V Comme ces metals et oxydes du groupe du
platinum sont coutteux et qu'on obtient un effet suffisant lorsqu'ils
ne sont presents que sur la couche superficielle, on prefere effectuer
comme stade final le revetement par pulverisation avec les metals ou
oxydes du groupe du platinum De plus, on peut les appliquer selon des
procedes tels que la galvanoplastie, le placage chimique,
le placage par dispersion, la pulverisation cathodique, la vapori-
sation, la decomposition thermique ou le frittage,etc, apres formation
de la couche de tungsten ou de tungsten carbide
formee par pulverisation precedemment decrite.
La couche formee par pulverisation de tungsten ou de tungsten carbide
et comprenant le metal ou l'oxide du groupe du platinum a de
preference une Cpaisscur d'environ 0,02 A 0,5 mm, de preference de 50
a IC O,m Si l'epaisseur est inferieure a environ 0,02 mm, les
proprietes desirees ne peuvent pas etre obtenues car il devient
difficile de former une couche de revetement uniforme sur le subztrat
De plus, si l'epaisseur depasse environ 0,5 mm, la couche de
revitement peut se fissurer facileraent, ce
qui provoque une deterioration de la resistance a la corrosion.
On peut effectuer le revetement par pulverisa-
tion par revetement a la flamme ou au plasma, en utilisant un appa-
reil classique de revetement par pulverisation de poudres a letat
fondu Le revetement forme ainsi par pulverisation peut en pratique
etre utilise comme cathode dans des conditions moderement corrosives,
car ces caracteristiques de cathode et sa durabilite sont ameliorees
dans une certaine mesure Cependant, il est generalement inevitable
qu'une couche formee par revetement par pulverisation presente de
nombreuses ouvertures fines, et que l'electrolyte penetre a travers
les ouvertures fines et corrode le substrat metallique lors de
l'emploi avec des electrolytes fortement corrosifs, en particulier
ceux ayant un p H de 5 ou moins A ce jour, on n'a pas obtenu de
cathode suffisamment durable dans de tels electrolytes.
L'invention repose sur la decouverte que la durabilite de la cathode
est fortement amelioree par application, par impregnation a la couche
de revetement formee par pulverisation
precedemment decrite, d'une resine fluoree resistant aux acides.
Les resines fluorees resistant aux acidsque l'on peut utiliser
comprennent diverses resines connues, mais on prefere utiliser des
resines fluorees composees de tetrafluoroethylene, de fluorochloro-
ethylene ou de copolymere de tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene.
Par impregnation de la couche de revetement formee par pulverisation
avec la resine fluoree resistant aux acides, on peut obturer les
ouvertures fines de la couche de revetement formee par pulverisation
13272
et empecher ainsi tres bien la corrosion du substrat metallique
due a la penetration de l'electrolyte.
De plus, il est necessaire d'effectuer l'appli-
cation par impregnation de la resine precedemment decrite de telle
sorte que les ouvertures fines soient suffisamment obturees, mais en
laissant des parties apparentes de la substancea activite
cathodique sans recouvrir completement la surface a activite catho-
dique L'application par impregnation peut facilement etre realisee par
application d'une quantite appropriee d'une dispersion de la resine
fluoree precedemment decrite a la couche de revetement formee par
pulverisation, par pulverisation ou par application
a la brosse puis chauffage a environ 300 a 400 'C De plus, l'ap-
plication par impregnation de la resine fluoree peut etre obtenue
selon un procede de polymerisation avec plasma, un procede de
revetement par pulverisation avec plasma, un procede de vaporisation
sous vide, un procede d'electrophorese ou un procede consistant
simplement a frotter la resine pour la faire penetrer dans la couche
de revetement.
Il est necessaire d'appliquer la resine fluoree resistant aux
acidsprecedemment dectitea raison d'environ 1 g/m 2 ou plus, a la
surface exterieure de la couche de revetement formee par pulverisation
pour l'impregner Si la quantite est inferieure a environ 1 g/m,
l'effet d'amelioration de la resistance a la corrosion n'est pas
suffisamment obtenu car la consommation de la cathode s'accrolt
rapidement D'autre part, si la quantite de la resine a appliquer par
impregnation est accrue, la resistance a la corrosion est
remarquablement amelioree, mais l'importance de la surface a activite
cathodique apparente diminue et le potentiel
electrique de production d'hydrogens'accrolt progressivement.
Par consequent, il est necessaire d'appliquer la resine fluoree en une
quantite telle que des portions apparentes demeurent sur la surface
exterieure de la substance a activite cathodique, comme
precedemment decrit.
La cathode de l'invention peut etre utilisee non seulement pour des
systemes unipolaires, mais egalement du
cote cathodique, de systemes multipolaires.
13272
L'invention est illustree par les exemples non limitatifs suivants:
EXEMPLE 1
A une tige de titanium ayant un diametre de 3 mm et une longueur de 20
cm, on applique par revetement par pulverisation avec un plasma, dans
les conditions indiquees dans le tableau 2 ci-dessous, une poudre de
tungsten carbide a 12 percent de cobalt du commerce (METCO 72 F-NS)
indiquee dans le tableau 1 comme composition n 4, pour obtenir une
couche formee par pulverisation ayant une epaisseur de 0,1 mm
T.A B L E A U 2
Conditions de la formation par pulverisation d'un revetement de
tungsten carbide Courant de l'arc electrique 500 A Tension de l'arc
electrique 75 V Quantite de gaz operatoire fournie Ar: 40 1/min, HE: 6
1/min Quantite de poudre fournie 2,7 kg/h Distance du revetement forme
par pulverisation 90 mm
Apres avoir plonge la matiere revetue par pulve-
risation ainsi obtenue dans une dispersion de resine de tetrafluoro-
ethylene, pendant 1 min, on chauffe la matiere a 330 C pendant min On
prepare la dispersion indiquee ci-dessus par addition de 1 partie
d'water a 1 partie de Polyflon Dispersion D 1 (nom commercial, produit
par Daikin Kogyo Co; teneur en polymere: 60 percent) Apres chauffage,
la quantite de resine appliquee par impregnation est d'environ 10 g/m
Lorsqu'on examine avec un microanalyseur a rayons X (Hitachi X-560),
la distribution du fluorine elementaire sur la surface de
l'echantillon obtenu, on constate que la surface exterieure est
partiellement impregnee Lorsqu'on mesure le potentiel electrique a 25
C dans une solution aqueuse d'hydrochloric acid ayant une
concentration de 150 g/l en utilisant l'echantillon decrit ci-dessus
comme cathode, on constate que le potentiel electrique de production
d'hydrogen est inferieur de 140 m V a celui d'une electrode de
graphite utilisee de facon semblable De plus, lorsqu'on effectue une
electrolyse a 600 C, dans une solution aqueuse d'hydrochloric acid
ayant une concentration de 150 g/l avec une densite de courant de 0,5
A/cm pendant 200 h en utilisant la cathode
decrite ci-dessus, on n'observe aucune consommation de la cathode.
Au contraire, la consommation de la cathode sans impregnation par la
resine est de 60 g/m dans les memes conditions que celles decrites
cidessus On voit donc que la durabilite de la cathode
de l'invention est remarquablement amelioree.
EXEMPLE 2
A une plaque d'alliage de nickel (nom commercial Hastelloy; Mo 28
percent Fe 5 percent Ni restant) mesurant 30 mm x 30 mm x 2 mm, on
applique par revetement par pulverisation avec un plasma de la poudre
de tungsten du commerce (METCO 61-FNS) dans les conditions insiquees
dans le tableau 3 ci-dessous pour produire une couche de revetement
formee par pulverisation ayant une epaisseur de 0,1 mm
T A B L E A U 3
Conditions de formation d'un revetement de tungsten par pulverisation
Courant de l'arc electrique 500 A Tension de l'arc 7,5 V Quantite de
gaz operatoire fournie NI 40 1/min Quantite de poudre fournie Distance
du revetement forme par pulverisation ethylene a dispersion cathode. H
2 6 1/min kg/h mm
On applique ensuite une resine de tetrafluoro-
raison de 15 g/m 2 par impregnation en utilisant la meme et le meme
procede que dans l'exemple 1 pour produire une Le potentiel electrique
de cette cathode a 251 C dans une solution aqueuse d'sulfuric acid a
130 g/l est inferieur de 30 m V a celui d'une electrode de graphite
utilisee de facon semblable De plus, lors d'une electrolyse a 50 'C
dans une solution aqueuse d'sulfuric acid a 150 g/l avec une densite
de courant de 0,2 A/cm 2, on n'observe pas de consommation de la
cathode apres
13272
1000 h A titre comparatif, la consommation de la cathode sans resine
fluoree est de 50 g/m 2
EMPLE 3
On applique une poudre preparee par addition de 5 percent en poids
d'ruthenium oxide ayant une taille des parti-
cules d'environ 2 am a 5 um aune poudre de tungsten pour reve-
tement par pulverisation comme decrit dans l'exemple 2 et, en
melangeant suffisamment le melange, on l'applique au meme type de
substrat que decrit dans l'exemple 2 par revetement par pulveri-
sation avec un plasma dans les memes conditions que celles indiquees
dans le tableau 3 de l'exemple 2 pour produire une couche de revg-
tement formee par pulverisation ayant une epaisseur de 10 pm De plus,
on applique une resine de tetrafluoroethylene a raison de g/m 2 par
impregnation en utilisant la meme dispersion et le meme procede que
dans l'exemple 1 Lorsqu'on effectue les memes mesures et le meme essai
d'electrolyse que dans l'exemple 2, le potentiel electrique de
production d'hydrogen est inferieur de 240 m V a celui du graphite
utilise de facon semblable et on n'observe aucune consommation de la
cathode Avec la cathode comparative, sans
traitement par la resine fluoree, la consommation est de 40 g/m 2.
EXEMPLE 4
Sur une surface d'une couche formee par reve-
tement par pulverisation de tungsten preparee de la meme facon que
dans l'exemple 2, on forme une couche de revetementde palladium
epaisse d'environ 1,pm par depot a partir d'une solution dans les
conditions suivantes: palladium chloride et d'ammonium: 6,25 g/l,
ammonium chloride: 10 g/1; pli H 0,1 0,5 ajuste avec de l'hydrochloric
acid,; temperature: 25 C et densite du courant: 1 A/dm
Ensuite, on applique un copolymere de tetra-
fluoroethylene-hexafluoropropylene (rapport molaire environ 1/1) a
raison de 10 g/m par impregnation en utilisant le meme procede que
dans l'exemple 1.
Le potentiel electrique de production d'hydrogen de la cathode
obtenue, dans les memes conditions d'evaluation que dans l'exemple 2,
est inferieur de 270 m V a celui du graphite utilise de facon
semblable et on n'observe aucune consommation de
la cathode.
13272
Bien entendu, diverses modifications peuvent etre apportees par
l'homme de l'art aux dispositifs ou procedes qui viennent d'etre
decrits uniquement a titre d'exemples non
limitatifs sans sortir du cadre de l'invention.
13272
R E E N D I C A T I O N S
1 Cathode pour l'electrolyse de solutions acides, caracterisee en ce
qu'elle comprend: un substrat metallique conducteur de l'electricite,
une couche de revetement formee par pulverisation d'une matiere a
activite cathodique contenant du tungsten, du tungsten carbide ou un
de leurs melanges a raison de 10 percent en poidsou plus, sur ledit
substrat et une couche de revetement formee par impregnation de 1 g/m
2 ou plus d'une resine fluoree resistant aux acides sur la surface
exterieure de ladite couche formee par revetement par pulverisation de
matiere
a activite cathodiquacids.
2 Cathode selon la revendication 1, caracterisee en ce que ledit
substrat metallique conducteur de l'electricite est un substrat de
titanium, de tantalum, de niobium, de zirconium ou d'un de
leurs alliages.
3 Cathode selon la revendication 1, caracterisee en ce que ledit
substrat metallique conducteur de l'electricite est un
substrat de nickel ou d'un alliage de nickel.
4 Cathode selon la revendication 1, caracterisee en ce que ladite
couche formee par revetement par pulverisation est constituee
d'environ 10 and 99, 9 percent en poids de tungsten, de tungsten
carbide ou d'un de leurs melanges, et d'environ 0,1 90 percent en
poids d'au moins un element choisi parmi le cobalt, le nickel, le
chromium, le molybdenum, le boron et le carbon.
Cathode selon l'une des revendications 1 ou 4,
caracterisee en ce que ladite couche formee par revetement par pulve-
risation est constituee d'environ 0,01 A 10 percent en poids d'au
moins un
element choisi parmi le platinum, le ruthenium, 1 ' iridium, le palla-
dium, le rhodium et leurs oxydes.
6 Cathode selon la revendication 1, caracterisee
en ce que ladite couche formee par revetement par impregnation com-
prend une resine de tetrafluoroethylene.
7 Procede pour produire une cathode pour l'electro-
lyse de solutions acides, caracterise en ce qu'il comprend:
13272
la formation d'une couche formee par revetement par pulverisa-
tion d'une matiere a activite cathodique sur un substrat metal-
lic conducteur de l'electricite, par pulverisation d'une poudre
contenant environ 10 percent en poids ou plus de tungsten, de tungsten
carbide ou d'un de leurs melanges; o impregnation de la surface
exterieure d'une couche de revetement avec une resine fluoree
resistant aux acides, a raison d'environ 1 g/m ou plus de facon a
laisser des portions apparentes de ladite matiere a activite
cathodique; chauffage de ladite matiere ainsi produite et
solidification de ladite resine sur ladite matiere.
8 Procede selon la revendication 7, caracterise en-
ce que ladite couche de revetement est formee par revetement par
pulverisation avec un plasma ou revetement par pulverisation avec
une flamme.
9 Procede selon la revendication 7, caracterise en ce que ledit
procede comprend le revetement de ladite couche revetue par
pulverisation avec au moins un metal du groupe du platinum ou un
oxide correspondant.
<
? ?
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you know whereabouts in the document they occur. [108][_]
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any discovery (or vertical marker) when you mouse over
it.<br/><br/>The preview window is draggable so you may place it
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