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Molecule
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DES
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indium oxide
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tin
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zinc sulfide
(1)
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manganese
(1)
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aluminium
(1)
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molybdenum
(1)
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Gene Or Protein
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Etre
(4)
[15][_]
De1
(1)
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Axe1
(1)
[17][_]
Apte
(1)
[18][_]
Physical
(5/ 6)
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de 0,8 mm
(2)
[20][_]
de 50 nm
(1)
[21][_]
50 mm
(1)
[22][_]
de 1,27 mm
(1)
[23][_]
de 1,27 m
(1)
[24][_]
Generic
(1/ 1)
[25][_]
oxide
(1)
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Publication
_________________________________________________________________
Number FR2513661A1
Family ID 8020494
Probable Assignee Tueta Roger
Publication Year 1983
Title
_________________________________________________________________
FR Title INSTALLATION POUR LE DEPOT DE COUCHES SOUS VIDE A TRAVERS DES
MASQUES, MUNIE D'UN DISPOSITIF PERMETTANT DE CHANGER DE MASQUE
EN Title VACUUM DEPOSITION OF LAYERS THROUGH MASKS - CHANGING THE
MASKS UNDER VACUUM
Abstract
_________________________________________________________________
INSTALLATION POUR LE DEPOT DE COUCHES SOUS VIDE A TRAVERS DES MASQUES.
L'INSTALLATION COMPREND UN BATI D'EVAPORATION SOUS VIDE 30 EQUIPE D'UN
PORTE-ECHANTILLON 34 ENTRAINE EN ROTATION ET UN DISQUE 50 MONTE SUR UN
AXE 52 RELIE AU PORTE-ECHANTILLON, CE DISQUE SUPPORTANT DES MASQUES A
SA PERIPHERIE, LESQUELS SONT MIS EN PLACE PAR ROTATION DU DISQUE.
CETTE ROTATION EST COMMANDEE DE L'EXTERIEUR DU BATI, CE QUI EVITE LA
REMISE A L'AIR AU CHANGEMENT DE MASQUE.
APPLICATION A LA REALISATION DE DISPOSITIFS A COUCHE, NOTAMMENT
D'ECRANS PLATS ELECTROLUMINESCENTS.
Flat electro-luminescent screens etc., are produced by vacuum
deposition, through masks, of a number of different layers. The sample
to be coated is located in a carrier, which can be rotated in a vacuum
chamber. On the carrier is mounted a disc, around which the masks are
cut. When the carrier is stopped, in the right position in the
chamber, a rod may be engaged with the axis carrying the disc. The
disc can then be rotated to position the required mask over the
sample. The rod is retracted and the mask is held against the sample
by a spring. It is located by an indexing peg on the carrier engaging
in a hole in the disc. Changing masks without releasing the vacuum and
opening the chamber considerably reduces changers of pollution at the
interfaces of the layers. It also saves time.
Description
_________________________________________________________________
La presente invention a pour objet une installation pour le deport de
couches sous vide a travers des masques, cette installation etant
munie d'un dispositif permettant de changer de masque in situ. Elle
trouve une application dans la realisation de dispositifs
electroniques, elecrro-optiques, electroluminescents, etc...
La technique du masquage sous vide presente un interet considerable
pour de nombreuses applications parmi lesquelles on peut citer a
fabrication d'ecrans plats electroluminescents. En effet, la
realisation de ces dispositifs necessite les de1;7Cts successifs de
plusieurs couches de nature e-t de motifs differents.La figure 1
annexee represente, a outre d'ex.emple, une coupe transversale d'un
ecran d1a-trichage. I1 comprend une electrode Erontale 10
transparente, generalement obtenue par depot sur un substrat de verre
12 d'une couche d'indium oxide dope a l'oxide- d'tin Cette couche est
ensuite recuite afin quelle presente les caracteristiques requises
pour ce qui concerne la transparence et la conductivite, puis
photogravee selon le motif recherche. L'electrode 10 est recouverte
d'une premiere couche dielectrique 14 surmontee d'une couche
electroluminescente i6 recouverte d'une seconde couche dielectrique
18.L'ensemble est recouvert dune electrode posterieure 20.
Les quatre couches 14, 16, 18 et 20 sont obtenues par evaporation sous
vide des materiaux correspondants au travers de masques differents
successivement disposes devant l'echantillon.
Pour realiser ces couches, on procede en general de la maniere
suivante: on ouvre le bati d'eva- poration apres chaque depot de
couche, on change de masque puis on effectue le depot suivant.
Avec une telle technique, il est clair que les risques de pollution
des interfaces sont grands De il't; le ternps de fabrication d'un
dispositif complet a plus leurs couches est considerable car il est
necessaire de refaire un vide secondaire convenable dans le bati
d'evaporation.
Une variante a cette techn que consiste a utiliser un sas de
chargement, mais, meme dans ce cas, le nombre d'operations a effectuer
reste eleve.
Il serait souhaitable, afin d'eviter ces inconvenients, de disposer
d'une installation permettant de changer de masque sans qu'il soit
besoin de remettre a l'air le bati d'evaporation. Le probleme pose est
rendu difficile par le fait que le substrat sur lequel les operations
de depot s'effectuent est en general anime d'un mouvement de rotation
afin qu l'adherence et l'homogeneite des couches soient de bonne
qualite.
L'invention a justement pour objet une installation qui resout ce
probleme.
De facon precise, l'invention a pour objet une installation pour le
depot de couches sous vide a travers des masques, cette installation
comprenant un bati d'evaporation sous vide equipe d'un
porte-echantillon muni d'un emplacement de traitement destine a
recevoir un echantIllon, ce porte-echantillon etant entraine en
rotation par des moyens appropries; l'installation est caracterisee en
ce qu'elle comprend en outre un disque monte sur un axe relie au
porte-echantillon et entraine avec celui-ci dans sa rotation, ce
disque supportant des masques disposes a sa peripherie de maniere a
pouvoir etre places, par rotation du disque autour de son axe1 devant
l'emplacement de traitement du porte-echantillon, un moyen etant prevu
pour, a llarret du porte-echantillon et de l'exterieur de l'en-
ceinte, faire tourner l'axe du disque porte-masques.
Les caracteristiques de l'invention apparai- tront mieux apres la
description qui suit, d'un exemple de realisation donne a titre
explicatif et nullement limitatif. Cette description se refere a des
dessins annexes sur lesquels
- la figure 1, deja decrite, represente en coupe un dispositif
d'affichage a plusieurs couches,
- la figure 2 represente une installation conforme a l'invention,
- la figure 3 represente, en vue de dessus, un ensemble
porte-echantillon avec son disque portemasques,
- la figure 4 illustre un exemple de realisation d'un disque
porte-masques.
L'installation representee sur la figure 2 comprend un bati
d'evaporation sous vide 30 comprenant des moyens connus comme une
enceinte 32, un porteechantillon 34 muni d'un emplacement 36 destine a
recevoir l'echantillon a traiter et solidaire d'un axe 38 traversant
l'enceinte 32 par un passage etanche 40, cet axe etant anime d'un
mouvement de rotation grace a un moteur 42. L'installation comprend
encore un passage etanche 44 traverse par des connexions electriques
46 permettant d'assurer une regulation en temperature d'une
chaufferette non representee qui permet de maintenir l'echantillon
dispose dans l'emplacement 36 a une temperature appropriee.
L'installation representee comprend enfin des moyens de pompage et des
moyens d'evaporation de materiaux qui ne sont pas representes car bien
connus.
L'invention porte essentiellement sur le dispositif permettant
d'amener devant l'echantillon un masque parmi plusieurs, sans detruire
le vide qui regne dans le bati. Ce dispositif comprend un disque
portemasques 50 fixe a l'extremite d'un axe 52 relie au por
te-echantillon 34 et par consequent entraine en rotation avec
celui-ci. Comme on le voit mieux sur la figure 3, le disque 50 porte,
a sa peripherie, des masques
M1, M2, M3 et M4 qui peuvent, par rotation du disque 50, venir en
regard de l'emplacement 36 ou est dispose l'echantillon a traiter.
Pour en revenir a-la figure 2, le disque 50 est applique sur la partie
inferieure du porte-echantillon par un ressort 54. Pour assurer le
positionnement correct de chaque masque devant l'emplacement de
traitement, autant d'ouvertures 56 que de masques sont percees dans le
disque porte-ecrans 50. Ces ouvertures viennent cooperer avec une
butee 58 prevue dans le porte-echantillon.
Pour faire tourner le disque porte-masques 50, il est prevu une tige
60 traversant l'enceinte par un passage etanche 62 et disposee de
maniere a se presenter dans le prolongement de l'axe 52 pour une
position particuliere du disque porte-masques. Cette tige 60 peut etre
deplacee verticalement de telle sorte que son extremite inferieure
vienne au contact avec l'ex- tremite superieure de l'axe 52. Ces deux
extremites sont munies d'un systeme du genre tourne-vis qui permet de
solidariser en rotation la tige 60 et l'axe 52.
La mise en place d'un masque particulier s'effectue par les operations
suivantes - immobilisation de l'ensemble porte-echantillon dans la
position ou l'axe 52 du disque portemasques est dans le prolongement
de la tige 60, - engagement de l'extremite inferieure de la tige 60
dans l'extremite superieure de l'axe 52 afin de soli dariser les deux
pieces, - rotation de la tige 60 jusqu a amener le masque choi si en
regard de l'echantillon a traiter, - desolidarisation de la tige 60 et
l'axe 52, - remise en rotation du porte-echantillpn.
L'installation qui vient d'etre decrite a permis ia realisation
d'afficheurs electro3uminescents a matrice d* pnint sur des substrats
de base de 50 nm par 50 mm apres photogravure de l'electrode frontale
en 26 lignes de 0,8 mm de large au pas de 1,27 mm. Le disque
porte-masques utilise pour cette realisation est represente sur la
fiable 4. Il utilise trois masques differents A12, M3, M4. Le masque
de l'emplacement M2 sert pour le depot des deux couches dielectriques
14 et 18 de la figure l, celui de l'emplacement M3 servant au depot de
la couche electroluminescente 16 de zinc sulfide dope au manganese. Le
depot des electrodes poste rieures 20 en aluminium, sous frme de
colonnes de 0,8 mm de large au pas de 1,27 m,m est effectue au tra
vers du masque de l'emplacement M4. Ce dernier masque, obtenu par
usinage chimique d'une feuille de molybdenum, est ajuste sur le disque
porte-masques. Quant aux masques M2 et M3 ils sont directement obtenus
par usinage mecanique du disque porte-masques la qualite des
afficheurs obtenus est excellente du fait du parfait positionnement
des masques et de l'absence de remise a l'air entre le depot des
differentes couches, ce qui evite bon nombre de defauts d'interface.
Claims
_________________________________________________________________
REVENDTCATIONS
1. Installation pour le depot de couches sous vide a travers des
masques, cette installation comprenant un bati d 1evaporation sous
vide (30) equipe dlun porte-echantillon (34) muni d'un emplacement
(36) de traitement destine a recevoir un echantIllon a traiter, ce
porte-ecIantiI1on etant entrain en rotation par des moyens appropries
(38, 42), caracterisee en ce qu'elle comprend en outre un disque (50)
monte sur un axe (52) relie au porte-echantillon (34) et entraine avec
celuici dans sa rotation, ce disque supportant des masques (M1, M2...)
disposes a sa peripherie de aigre a pouvoir etre places, par rotation
du disque autour de son axe, devant l'emplacement de traitement du
porte-echantillon, un moyen etant prevu pour, a l'arret du porte
echantillon, et de l'exterieur de l'enceinte, faire tourner l'axe du
disque porte-masques.
2. Installation selon la revendication 1, caracterisee en ce que le
porte-echantillon est muni d'une butee (58) et le disque porte-masques
(50) d'autant d'ouvertures (56) que de masques, chaque ouverture
pouvant venir cooperer avec la butee pour definir une position
relative du disque par rapport au porte-echantillon.
3. Installation selon l'une quelcongue des revendications 1 et 2,
caracterisee en ce qu'elle comprend un ressort de rappel (52) apte a
appliquer le disque porte-masques (50) sur le porte-echantillon (34).
4. Installation selon l'une quelconque des revendications 1 a 3,
caracterisee en ce que le moyen permettant de faire tourner l'axe du
disque porte-mas aues (50) est une tige (60) disposee dans le
prolongement de l'axe (52) du disque porte-masques pour une position
particuliere de celui-ci, cette tige (60) pouvant coulisser et se
solidariser avec l'axe (52) du disque porte-masques.
5. Installation selon la revendication 1, caracterisee en ce que
certains masques sont directement usines dans le disque porte-masques.
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