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[5][_]
Molecule
(45/ 93)
[6][_]
EPOXY-ACRYLATE
(11)
[7][_]
Irgacure 651
(6)
[8][_]
Methylcellosolve
(5)
[9][_]
hydroquinone monomethyl ether
(5)
[10][_]
aluminium
(4)
[11][_]
n-butanol
(4)
[12][_]
Ebecryl 600
(4)
[13][_]
diacrylate
(3)
[14][_]
copper
(3)
[15][_]
silicate
(3)
[16][_]
pentaerythritol Triacrylate
(3)
[17][_]
water
(3)
[18][_]
ACRYLATE
(2)
[19][_]
triacrylate
(2)
[20][_]
ethyl ether
(2)
[21][_]
chromium
(2)
[22][_]
oxygen
(2)
[23][_]
sodium metasilicate
(2)
[24][_]
DES
(1)
[25][_]
METHACRYLate
(1)
[26][_]
bisphenol A
(1)
[27][_]
pentaerythritol trimethacrylate
(1)
[28][_]
bisacrylate
(1)
[29][_]
pentaerythritol
(1)
[30][_]
diethylene dimethacrylate
(1)
[31][_]
butanediol
(1)
[32][_]
tripropyl diacrylate
(1)
[33][_]
ethyleneglycol
(1)
[34][_]
hydroquinone
(1)
[35][_]
p-methoxyphenol
(1)
[36][_]
butylcellosolve
(1)
[37][_]
acetone
(1)
[38][_]
methyl-isopropylketone
(1)
[39][_]
ethanol
(1)
[40][_]
isopropanol
(1)
[41][_]
dioxane
(1)
[42][_]
dimethyl-formamide
(1)
[43][_]
sodium silicate
(1)
[44][_]
mercury
(1)
[45][_]
sodium fluosilicate
(1)
[46][_]
acetic acid
(1)
[47][_]
Ebecryl 860
(1)
[48][_]
bispentaerythritol Acrylate
(1)
[49][_]
protec
(1)
[50][_]
LUDOX
(1)
[51][_]
Physical
(35/ 64)
[52][_]
1 g
(5)
[53][_]
3 g
(5)
[54][_]
0,3 g
(5)
[55][_]
0,03 g
(5)
[56][_]
20 g
(4)
[57][_]
0,6 g
(4)
[58][_]
150 g
(3)
[59][_]
30 sec
(3)
[60][_]
35 percent
(2)
[61][_]
140 g
(2)
[62][_]
3 percent
(2)
[63][_]
80 poises
(1)
[64][_]
320 nm
(1)
[65][_]
1,5 percent
(1)
[66][_]
15 percent
(1)
[67][_]
de 30 percent
(1)
[68][_]
5 percent
(1)
[69][_]
30 percent
(1)
[70][_]
0,60 g
(1)
[71][_]
7 g/l
(1)
[72][_]
de 10 g
(1)
[73][_]
de 1 g/m
(1)
[74][_]
de-60 cm
(1)
[75][_]
3,5 g
(1)
[76][_]
0,5 g
(1)
[77][_]
3 sec
(1)
[78][_]
6 sec
(1)
[79][_]
30 g
(1)
[80][_]
0,06 g
(1)
[81][_]
8 sec
(1)
[82][_]
2 percent
(1)
[83][_]
0,5 percent
(1)
[84][_]
2 sec
(1)
[85][_]
0,12 g
(1)
[86][_]
25 sec
(1)
[87][_]
Generic
(16/ 34)
[88][_]
ketone
(9)
[89][_]
ethers
(4)
[90][_]
POLYOL
(3)
[91][_]
acrylates
(2)
[92][_]
methacrylates
(2)
[93][_]
glycol
(2)
[94][_]
phenols
(2)
[95][_]
cations
(2)
[96][_]
alcohols
(1)
[97][_]
epoxy-acrylates
(1)
[98][_]
epoxides
(1)
[99][_]
polyphenols
(1)
[100][_]
esters
(1)
[101][_]
halogen
(1)
[102][_]
1es-acrylates
(1)
[103][_]
oxide
(1)
[104][_]
Gene Or Protein
(5/ 20)
[105][_]
Etre
(8)
[106][_]
Copie
(7)
[107][_]
Est-a
(3)
[108][_]
Appa
(1)
[109][_]
Metha
(1)
[110][_]
Substituent
(9/ 11)
[111][_]
epoxy
(3)
[112][_]
trimethylol
(1)
[113][_]
benzyldimethyl
(1)
[114][_]
butyl
(1)
[115][_]
methyl
(1)
[116][_]
ethyl
(1)
[117][_]
propyl
(1)
[118][_]
methyl-ethyl
(1)
[119][_]
benzyl
(1)
[120][_]
Polymer
(2/ 5)
[121][_]
Polyvinyl Alcohol
(4)
[122][_]
Polyacrylamide
(1)
[123][_]
Chemical Role
(1/ 3)
[124][_]
colorants
(3)
[125][_]
Organism
(2/ 2)
[126][_]
lories
(1)
[127][_]
soja
(1)
[128][_]
Disease
(1/ 1)
[129][_]
Rale
(1)
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Publication
_________________________________________________________________
Number FR2514159A1
Family ID 2379076
Probable Assignee Rhone Poulenc Multi Techniques
Publication Year 1983
Title
_________________________________________________________________
FR Title COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ET PLAQUE LITHOGRAPHIQUE REALISEE A
L'AIDE DE CETTE COMPOSITION
Abstract
_________________________________________________________________
COMPOSITION PHOTOSENSIBLE DESTINEE EN PARTICULIER, A LA REALISATION DE
PLAQUES LITHOGRAPHIQUES DEVELOPPABLES PAR DES SOLUTIONS AQUEUSES ET NE
NECESSITANT QU'UN TEMPS TRES COURT D'INSOLATION. CETTE COMPOSITION
COMPREND UNE RESINE EPOXY-ACRYLATE LIQUIDE OU VISQUEUSE, UN ACRYLATE
OU POLYOLMETHACRYLate ET AU MOINS UN PHOTOSENSIBILISATEUR. LA
COMPOSITION ET LES PLAQUES LITHOGRAPHIQUES DE L'INVENTION SONT
DESTINEES, EN PARTICULIER, A LA REPRODUCTION OFFSET.
Description
_________________________________________________________________
COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ET PLAQUE LITHOGRAPHIQUE
REALISEE A L'AIDE DE CETTE COMPOSITION
La presente invention concerne une nouvelle composition photo-
sensible destinee, en particulier, a la preparation de plaques
lithographiques. Les materiaux photosensibles, employes actuellement
pour un tel usage, comprennent en general des resines solides servant
de
liant au systeme photosensible compose d'un monomere et d'un photo-
sensibilisateur Ils peuvent comprendre des resines epoxy avec diverses
fonctions Ces resines qui constituent le liant de la couche
photosensible, sont a l'etat solide lors de l'utilisation de I la
plaque Une reticulation en presence du photosensibilisateur et d'un
monomere approprie, rend la couche insoluble dans son solvant aux
endroits insoles selectivement gr Ece a une source lumineuse et a
l'interposition d'un cliche portant l'image a reproduire, sur le
trajet de rayons actiniques, entre la source et la couche photosen-
I 5 sible La surface du revetement non insole reste soluble et est
eliminee par lavage, a l'aide d'un solvant approprie, laissant appa-
raitre une surface hydrophile alors que la couche de revetement
restante est encrophile On peut ainsi reproduire l'image selon un
procede bien connu La reticulation de ces resines solides exige une
exposition aux radiations actiniques d'une duree generalement supe-
rieure a la minute.
Ceci necessite un materiel special avec une lampe de grande puissance
et ne permettant que l'insolation par contact, et
excluant donc la possibilite d'exposition par projection Une compo-
sition a base d'epoxy acrylate a ete decrite dans la demande de brevet
europeen O 030 213; le temps d'insolation necessaire
est abaisse mais est neanmoins au minimum de 25 secondes en emplo-
yant une lampe tres puissante.
Il a maintenant ete trouve une composition photosensible ne
necessitant que des insolations de tres courte duree -
La presente Invention a donc pour premier objet, une composi-
tion photosensible, destinee en particulier a la preparation de
plaques lithographiques, comprenant une resine epoxy-acrylate liquide
ou visqueuse, un monomere pris dans le groupe des acrylates
et alcoholsmethacrylates polyhydroxyles ou d'oligomeres polyhy-
droxyles et au moins, un photosensibilisateur.
Les resines epoxy-acrylates susceptibles dutre mises en oeuvre dans
l'invention sont liquides ou visqueuses, c'est-a-dire qu'elles ont
generalement une viscosite a 60 C, comprise entre 40 et 80 poises Leur
poids moleculaire est generalement compris entre 400 et 1000;
avantageusement inferieur a 800 et de preference
compris entre 400 et 600; elles presentent deux liaisons olefini-
ques terminales et contiennent generalement du bisphenol A ou F Au
moins deux groupes epoxides par mole de resine finale ont ete mis en
IO oeuvre lors de leur preparation mais sont en quasi totalite ouverts
et esterifies Parmi ces resines, on peut citer les produits vendus par
"Shell Chemical Corp " sous l'appellation "Epocryl 370 " ou par
Union Chimique Belge" sous l'appellation "Ebecryl 6 Q O '.
Le deuxieme element de la composition est un monomere pris dans I 5 le
groupe forme par les acrylates ou polyolsmethacrylates; il contient,
de preference, de 2 a 4 et, plus preferentiellement, au
moins trois radicaux acryliques par molecule On peut citer notam-
ment le triacrylate et le pentaerythritol trimethacrylate,
l'bisacrylate pentaerythritol, le diethylene dimethacrylate-
glycol, le diacrylate de 1-diacrylate butanediol, le diacrylate de
niopentydiacrylate-
glycol, le tripropyl diacrylate Tneglyco I, le diacrylate de
tetrdiacrylate-
ethyleneglycol, le trimethylol-propantriacrylate et des tria-
crylates d'oligomeres hydroxyles 4 Ces produits sont liquides a
temperature ambiante.
Les photosensibilisateurs qui peuvent etre mis en oeuvre dans la
composition de l'invention, sont les composes miscibles au
melange de resine et monomere, susceptibles d'initier la polymerisa-
tion radicalaire des monomeres mentionnes 'ci-dessus sous l'effet
d'une radiation de longueur d'onde superieure a 320 nm Ces produits
sont-bien connus par les specialistes de la preparation de plaques
lithographiques On peut citer le benzyldimethyl-acetal vendu notam-
ment sous le nom "d'Irgacure 651 " par la Ste Ciba-Geigy, la benzolne
et ses ethers methyliques, ethyliques, isopropyliques ou butyliques et
la ketone de Mischler Deux ou plusieurs composes de chaque groupe de
la composition peuvent etre introduits dans celle-ci En particulier,
en ce qui concerne les photosensibilisateurs, la plage de sensibilite
aux radiations, est elargie lorsqu'un melange, par exemple "d'Irgacure
G 51 " d'une part et de ketone de Mischler ou d'ether ethylique de
benzolnethyl ether d'autre part, est present dans la composition. Un
quatrieme groupe de produits utiles dans la composition de l'invention
est constitue par les inhibiteurs de polymerisation
thermique, c'est-a-dire les substances qui empechent la polymerisa-
tion radicalaire de se produire sous l'effet d'un apport de ca-
lories-, sans bloquer cependant la photopolymerisation Ces produits I
O sont egalement bien connus des specialistes; on peut citer les
phenols et polyphenols, des ethers ou esters de phenols ou polyphe-
nols, par exemple, les ethers methylique, ethylique isopropylique
et hydroquinonebutyl, le p-methoxyphenol, le t ou n-
butylparacresol. I 5 Des colorants et differents autres additifs
peuvent egalement
etre presents dans la composition.
Les produits a l'etat liquide ou moderement visqueux, ou en
suspension pour ceux presents en faible proportion, se melan-
gent facilement pour former une composition homogene Ils sont mis
en oeuvre et sont donc presents dans la composition, dans les pro-
portions ou rapports suivants Le rapport ponderal de la resine sur le
monomere est compris entre 5 et -, la proportion ponderale de
1 1
photosensibilisateur par rapport a la resine liquide est compris entre
15 et 35 percent La proportion ponderale dlinhibiteur par rapport
a la resine est de 0,5 a 1,5 percent.
Il est cependant possible d'obtenir certains resultats en operant en
dehors des limites indiquees ci-dessus, du rapport
resine/monomere On se heurte alors cependant, a diverses diffi-
cultes Si ce rapport est trop faible, la couche reste trop pois-
seuse et est donc difficilement manipulable; son stockage et son
emballage sont difficiles Si ce rapport est trop eleve, la couche
presente une sensibilite plus faible, ce qui amoindrit son interet
pratique De meme, si le pourcentage de photosensibilisateur est
inferieur a 15 percent par rapport a la resine, la sensibilite de la
plaque est reduite Il est par ailleurs inutile de depasser la pro-
portion de 30 percent qui n'apporte aucun gain de sensibilite.
-2514159
Un autre objet de l'invention est la plaque lithographique
comprenant la composition de l'invention Cette plaque est consti-
tuee d'un support generalement metallique, qui peut etre de l'alu-
minium eventuellement anodise ou de l'acier copper puis chromium,
enduit sur une de ses faces Un traitement bien connu, d'abrasion
mecanique, chimique ou electrochimique a ete applique a la plaque pour
lui conferer un faible relief (aspect graine) Elle est d'abord
enduite de preference, de silicate de soudsilicate, qui peut etre du
fluo-
silicate dans le cas de l'aluminium, ou de silice sous forme de sol
I O notamment Une couche de polymere hydrosoluble tel que le polyacry-
lamide est de preference, appliquee ensuite.
Le support ainsi prealablement traite est ensuite revetu de la
composition de l'invention sur une epaisseur de 0,5 a 2 pm soit, un
poids de l'ordre du gramme par m 2 Pour ce faire, la composition est I
5 diluee dans un solvant polaire relativement volatil (Eb < 1500 C),
ne reagissant pas avec les ingredients de la composition On peut citer
comme solvant, le methyl, ethyl, propyl ou butylcellosolve, l'acetone,
la methyl-ethyl ou methyl-isopropylketone, l'ethanol,
l'isopropanol, le n-butanol, le dioxane, la dimethyl-formamide.
Cette enduction est faite selon des techniques bien connues par
exemple, sur une tournette ou par la technique dite "au rideau" dans
lesquelles la dilution de la composition dans le solvant, est de
l'ordre de 2 a 5 percent en poids ou "au trempe"; la dilution
peut alors etre plus faible, soit de l'ordre de 25 a 30 percent.
La plaque est ensuite sechee a temperature moderee (de l'ordre de 60 a
80 'C) puis de preference, enduite d'une couche de produit formant
barriere vis-a-vis de l'oxygen, par exemple de l'polyvinyl alcohol.
La plaque de l'invention ainsi realisee comprend donc un sup-
port, notamment d'aluminium graine, revetu d'une mince couche de
silice ou sodium silicate ou de produits resultant de l'action
de ces corps sur leurs substrats et eventuellement de polyacryla-
-mide puis de la composition de l'invention et de preference d'une
couche barriere vis-a-vis de l'oxygen.
Etant donne la sensibilite a la lumiere des plaques selon l'in-
vention, celles-ci seront stockees et manipulees au moins dans la
semi-obscurite, ou, de preference, en lumiere jaune inactinique.
L'insolation de la plaque se fait de facon traditionnelle, de
preference dans un chassis a vide, a l'aide d'un arc ou de prefe-
rence d'une lampe a vapeur de mercury dopee halogen.
L'insolation peut ne durer que quelques secondes dans un materiel
classique Il est donc possible de realiser des expositions par
exposition ou tout autre moyen exigeant une rapidite plusieurs
dizaines de fois plus elevee que les plaques negatives classiques.
Le developpement ne necessite pas l'utilisation de solvants organiques
mais simplement d'une solution aqueuse alcaline diluee,
notamment de sodium metasilicate, additionnee de produit tensio-
actif Le revelateur conventionnel des plaques positives est donc
utilisable sur cette plaque qui peut etre traitee dans un materiel
de developpement existant.
En dehors de la preparation de plaques lithographiques, la I 5
composition de l'invention est susceptible d'etre utilisee dans
differentes techniques de reproduction d'ecritures, de dessins ou
d'objets et de facon generale, dans les techniques oA? une insolubi-
lisation selective du revetement d'une surface, sous l'effet d'une
irradiation, est necessaire.
Les exemples ci-dessus sont donnes aux seules fins d'illustra-
tion de l'invention et ne peuvent donc limiter la portee de la
protection precisee dans les revendications.
EXEMPLE 1
On prepare une solution photosensible selon la formule suivante:
pentaerythritol Triacrylate 1 g Resine epoxy acrylate "Ebecryl 600 " 3
g de la Societe Union Chimique Belge (UCB) Methylcellosolve 150 g
nButanol 20 g "Irgacure 651 " de la Societe Ciba-Geigy 0,60 g ketone
de Mischler 0,3 g hydroquinone monomethyl ether 0,03 g On enduit cette
solution, a l'aide d'une tournette a raison de 50 t/mn pendant 30 sec,
sur une plaque d'aluminium grainee de la facon habituelle avec la
ponce et traitee pendant 30 sec avec une solution de sodium
fluosilicate a 7 g/l additionne de 10 g
d'acetic acid.
On seche la couche dans la tournette pendant 5 mn a 40 C puis minutes
en etuve a 80 C. Le poids de couche depose est de 1 g/m 2 On expose la
plaque ainsi obtenue a travers un montage negatif sous une lampe a arc
du type NU ARC 2 KW, distante de-60 cm pendant 5 secondes On developpe
la plaque en eliminant des parties non insolees avec le revelateur "QM
805 " (commerciallise par la Societe Rhone-Poulenc Systemes),
qui est une solution aqueuse de sodium metasilicate et de moui-
lant Cette operation est tres rapide On obtient une excellente
copie, avec 7 a 8 plages couvertes de la gamme Stauffer.
Il est a noter que le temps necessaire d'insolation pour des plaques
analogues conventionnelles ayant une couche photosensible
I 5 negative, est de l'ordre de 100 secondes.
EXEMPLE COMPARATIF A
On prepara une solution photosensible selon l'exemple 1, en remplacant
la resine "Ebecryl 600 " par la resine "Ebecryl 860 " de
meme provenance (epoxy acrylate de l'huile de soja de poids
moleacrylate
culaire de l'ordre de 1200) On enduit le support dans les memes
conditions que celles decrites dans l'Exemple 1.
Apres insolation, on constate que la plaque n'est pas deve-
loppable avec le meme revelateur que dans l'Exemple 1.
EXEMPLE COMPARATIF B -
L'exemple 1 est reproduit, mais en mettant en oeuvre 3,5 g de resine
epoxy et 0,5 g de triacryalate soit un rapport ponderal de 7: apres
une insolation de 5 secondes seulement, 4 a 6 plages de la gamme de
Stauffer sont couvertes; pour couvrir de 7 a 8 plages de cette gamme,
le temps d'insolation devrait approcher
secondes.
EXEMPLE 2
On prepare la solution suivante: Oligotriacrylate (appellation
commerciale "OTA 480 " de la Societe Union Chimique Belge) 1 g Resine
epoxyacrylate "Ebecryl 600 " 3 g Methylcellosolve 150 g n-Butanol 20 g
"Irgacure 651 " 0,6 g ketone de Mischler 0,3 g hydroquinone monomethyl
ether 0,03 g On applique cette couche sur le support decrit dans
l'Exemple 1
et dans les memes conditions Apres exposition de la plaque a tra-
vers un negatif pendant 5 a 6 secondes, on developpe celle-ci comme
dans l'Exemple 1.
On obtient une excellente copie avec 6 a 7 plages couvertes de
IO la gamme Stauffer.
EXEMPLE 3
On prepare la solution selon la formule suivante: bispentaerythritol
Acrylate 1 g "Ebecryl 600 " 3 g I 5 Methylcellosolve 150 g nButanol 20
g "Irgacure 651 " 0,6 g ketone de Mischler 0,3 g hydroquinone
monomethyl ether 0,03 g
On procede de la meme maniere que dans l'Exemple 1 Apres deve-
loppement, on obtient une plaque d'excellente qualite avec 5 a 6
plages couvertes de la gamme Stauffer.
EXEMPLE 4
On prepare une solution photosensible selon la formule suivante:
pentaerythritol Triacrylate 1 g
Resine epoxyacrylate commercialisee sous l'ap-
pellation "Epocryl 370 ", par la Societe SHELL Chemical Corp 3 g
Methylcellosolve 140 g n-Butanol 20 g "Irgacure 651 " 0,6 g ketone de
Mfischler 0,3 g hydroquinone monomethyl ether 0,03 g On enduit cette
couche sur le support decrit dans l'Exemple 1
et dans les memes conditions On applique une surcouche de protec-
tion avec une solution d'polyvinyl alcohol a 3 percent selon la
2514 159
technique habituelle La plaque ainsi obtenue est exposee a travers un
Mdontage negatif sous une lampe a arc du type NU ARC 2 KW, pendant
2 a 3 sec.
On obtient une excellente copie avec 8 a 9 plages couvertes de la
gamme Stauffer. Pour obtenir le meme resultat avec les plaques
habituellement utilisees dans l'imprimerie, il faudrait un temps
d'insolation
fois-plus long.
La plaque supporte tres bien un vieillissement accelere dans IO
l'etuve a 60 C pendant 48 heures, s'encre tres bien et ne graisse pas.
EXEMPLE 5
On prepare dans les memes conditions que dans l'Exemple I une solution
photosensible, en remplacant la ketone de Mischler par I 5 l'ether
ethylique de benzolnethyl ether Apres exposition a travers un negatif
pendant 5 a 6 sec, on obtient une excellente copie, avec 6 a 7
plages couvertes de la gamme Stauffer.
EXEMPLE 6
On prepare une solution photosensible selon la formule suivante:
pentaerythritol Triacrylate 1 g Resine epoxy acrylate "Epocryl 370 " 3
g Methylcellosolve 140 g n-Butanol 30 g "Irgacure 651 " 0,6 g ketone
de Mischler 0,3 g hydroquinone monomethyl ether 0,03 g Rouge feu
Zapon, colorant commercialise par la Societe BASF 0,06 g On procede
comme dans l'Exemple 4 Apres exposition a travers un montage negatif
pedant 7 a 8 sec, on obtient une excellente copie avec 6 a 7 plages
couvertes
de la gamme Stauffer.
EXEMPLE 7
On prepare dans les memes conditions que celles de l'Exemple 4,
une solution photosensible a 3 Z de solide.
On enduit cette solution a l'aide d'une tournette a 50 t/mn pendant 30
sec sur une plaque d'acier copper 7 e, chromee, traitee d'abord avec
une solution de "LUDOX" commercialisee par la
Societe SEPPIC, a 2 percent dans l'water puis avec une solution de
polyacry-
lamide a 0,5 percent dans l'water.
Une couche protectrice d'polyvinyl alcohol a 3 percent dans l'water
est appliquee selon la technique habituelle.
Apres exposition de la plaque a la lumiere actinique pendant
2 sec a travers un film negatif, on developpe celle-ci avec le re-
velateur QM 805.
On obtient une excellente copie avec 8 plaques couvertes de la
gamme Stauffer.
EXEMPLE 8
On prepare dans les memes conditions que celles de l'Exemple 7 la
couche photosensible en ajoutant 0,12 g du colorant rouge feu
Zapon.
On applique cette couche sur le meme support et dans les memes
conditions que celles de l'Exemple 7 Apres insolation a travers un
negatif pendant 25 sec, on obtient une excellente copie avec 7
plages couvertes de la gamme Stauffer.
R E V E N D I C AT I O N S
I Composition photosensible destinee en particulier a la prepara-
tion de plaques lithographiques, caracterisee en ce qu'elle comprend
une resine epoxy acrylate liquide ou visqueuse, un
monomere pris dans le groupe forme par 1es-acrylates ou metha-
polyols ou d'oligomeres hydroxyles et au moins un
photosensibilisateur.
2 Composition photosensible selon la revendication 1, caracte-
risee en ce que la resine epoxy acrylate a un poids moleculaire
compris entre 400 et 1000.
I O 3 Composition photosensible selon la revendication 2, caracte-
risee en ce que la resine epoxy acrylate a un poids moleculaire
compris entre 400 et 600.
4 Composition photosensible selon les revendications 1, 2 ou 3,
caracterisee en ce qu'elle contient un melange de photosensi-
I 5 bilisateur constitue d'une part par le benzyl-dimethylacetal et
d'autre part, par la ketone de Mischler ou un ether de lether benzolne
Composition photosensible selon l'une quelconque des revendi- cations
precedentes, caracterisee en ce que la resine epoxy acrylate et le
monomere acrylique se trouvent dans un rapport 2
ponderal compris entre 5 et 2-.
1 1
6 Composition photosensible selon l'une quelconque des revendica-
tions precedentes, caracterisee en ce que la proportion ponde-
rale de photosensibilisateur par rapport a la resine, est
compris entre 15 et 35 percent.
7 Composition photosensible seion l'une quelconque des revendi-
cations precedents, caracterisee en ce qu'elle contient en outre, un
inhibiteur de polymerisation radicalaire thermique en une proportion
ponderale par rapport a la resine, comprise entre 0,5 et 1,5 X. 8
Plaque lithographique comprenant un support metallique graine pris
dans le groupe constitue par l'aluminium eventuellement oxide en
surface et l'acier copper puis chromium, caracterisee en
2514 159
ce que ledit support est revetu d'une composition photosensible
selon l'une quelconque des revendications precedentes.
9 Plaque lithographique selon la revendication 7, caracterisee en ce
qu'une sous-couche constituee par le produit resultant d'un traitement
a l'aide d'un silicate ou d'un-sel de silice, est
present sous la composition photosensible.
Plaque lithographique selon la revendication 9, caracterisee
en ce que cette sous couche comprend egalement le produit re-
sultant d'un traitement par un polyacrylamide.
11 Plaque lithographique selon l'une des revendications prece-
dentes, caracterisee en ce qu'elle comprend une couche super-
ficielle d'polyvinyl alcohol.
<
? ?
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the relative positions of currently selected key terms within the full
document length.<br/><br/>You can then click the markers to jump to
general locations within the document, or to specific discoveries if
you know whereabouts in the document they occur. [132][_]
Open a preview window.<br/><br/>This window will provide a preview of
any discovery (or vertical marker) when you mouse over
it.<br/><br/>The preview window is draggable so you may place it
wherever you like on the page. [133][_]
[static.png]
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(Mouse over discovery items)
[textmine.svg] textmine Discovery
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TextMine: Publication Composition
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The best thing to do is to experiment by opening the sections and
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