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SEMI
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helium neon
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Ts
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Physical
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de 50 microns
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49,1 mm
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40 mm
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1,6 mm
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PRECIS
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Disease
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Publication
_________________________________________________________________
Number FR2518255A1
Family ID 1938493
Probable Assignee Gca Corp
Publication Year 1983
Title
_________________________________________________________________
FR Title APPAREIL D'ALIGNEMENT PRECIS DE PLAQUETTES SEMI-CONDUCTRICES
Abstract
_________________________________________________________________
L'INVENTION CONCERNE LES APPAREILS D'ALIGNEMENT.
ELLE SE RAPPORTE A UN APPAREIL DANS LEQUEL L'ALIGNEMENT DE PLAQUETTES
SEMI-CONDUCTRICES 11, PORTANT DES CIBLES DE FRESNEL 17, EST ASSURE PAR
FORMATION D'IMAGES PONCTUELLES REELLE ET VIRTUELLE PA ET PB ET PAR
REPRISE DE CES IMAGES AFIN QU'ELLES FORMENT CHACUNE UNE IMAGE SUR UN
DETECTEUR 41, 43 A QUADRANTS. LA COMPARAISON DES SIGNAUX DES
DETECTEURS PERMET LA DISTINCTION ENTRE LES ECARTS DUS A UN DEPLACEMENT
ET LES ECARTS DUS A UNE INCLINAISON.
APPLICATION A LA FABRICATION DES CIRCUITS INTEGRES.
Description
_________________________________________________________________
18255
La presente invention concerne un appareil d'alignement destine a
l'exposition de plaquettes semi- conductrices et plus precisement un
tel appareil d'ali- gnement qui utilise une cible formant une zone de
Fresnel a la surface de la plaquette et reduisant les erreurs dues a
l'inclinaison de la surface de la plaquette.
Au cours de la fabrication des circuits inte- gres, il faut
habituellement former une succession de des- sins sur une plaquette
semi-conductrice par mise en oeuvre d'operations photolithographiques
Ces dessins doivent etre realises dans une position reperee avec
precision les uns par rapport aux autres Comme la technique des
circuits integres a progresse vers des circuits de plus grande den-
site, necessitant une resolution de plus en plus fine, les criteres de
mise en position reperee sont devenus de plus en plus serres.
On a deja propose de faciliter la mise en po- sition reperee ou
l'alignement de dessins photolithographi- ques successifs, par
creation, a la surface de la plaquette semiconductrice, de reperes ou
marques d'alignement sous forme d'une cible formant une lentille de
Fresnel Une telle cible peut jouer le role d'une lentille de
diffraction et peut creer des images de luminosite utile Un tel
appareil d'alignement est decrit par exemple dans le brevet des Etats-
Unis d'Amerique N O 4 037 969 Dans l'appareil d'alignement decrit dans
ce brevet, la cible de Fresnel est eclairee par de la lumiere
coherente et l'image ponctuelle resul- tante formee au-dessus de la
surface de la plaquette est detectee par un photodetecteur Les signaux
crees par le photodetecteur commandent alors le positionnement relatif
d'un semi-conducteur et d'un dessin ou reticule qui doit etre projete
sur la plaquette Bien que cet appareil per- mette une grande precision
dans certaines circonstances, on a constate qu'il etait tres sensible
a toute inclinaison de la surface de la plaquette et qu'il existait
apparemment un certain nombre de sources d'inclinaison localisee de la
surface de la plaquette Ce probleme se pose parce que l'inclinaison de
la cible de Fresnel provoque un deplace- ment de l'image ponctuelle
d'une maniere qui ne peut pas etre distinguee du deplacement provoque
par une transla- tion laterale de la plaquette.
L'invention concerne ainsi un appareil d'ali- gnement precis d'une
plaquette semi-conductrice au cours de sa fabrication, un appareil qui
utilise une cible for- mant une lentille de Fresnel formee sur la
plaquette, un appareil qui est peu sensible aux erreurs dues a
l'incli- naison de la surface de la plaquette, un appareil qui donne
un alignement avec une precision exceptionnellement elevee, un
appareil qui est tres fiable et qui est relativement simple et peu
couteux.
Plus precisement, l'invention concerne un ap- pareil de positionnement
ou d'alignement precis de pla- quettes semi-conductrices destinees a
subir une exposition dans un appareil formant des images par
projection L'ap- pareil comporte des reperes formant des cibles de
Fresnel a la surface de la plaquette, les reperes etant eclaires par
de la lumiere coherente afin que, par diffraction, ils forment des
images ponctuelles du premier ordre au-dessus et au-dessous de la
surface de la plaquette Les images ponctuelles ainsi formees sont
reprises afin qu'elles for- ment des images avec des grandissements a
peu pres egaux, sur des detecteurs photoelectriques respectifs si bien
que chaque detecteur transmet un signal de sortie de sortie qui
contient une composante d'erreur representative de la position
relative de l'image ponctuelle projetee La po- sition de la plaquette
semi-conductrice est alors reglee d'apres la somme des signaux formes
par les detecteurs afin qu'une position dans laquelle les composantes
d'erreur des signaux soient egales et opposees soit cherchee Com- me
l'inclinaison cree des composantes d'erreur qui sont opposees alors
que le deplacement de la cible provoque des composantes qui
s'ajoutent, les erreurs de positionnement dues a des inclinaisons
localisees sont minimales.
D'autres caracteristiques et avantages de l'in-
2518 55 entson:essortiroe percent : mieux de la description qui va
suivre, faite en rcferei ce aux dessins annexes sur lesquels: la
figure I est un schema representant le fonc- tionnement d'un appareil
d'alignement realise selon l'in- vention; la figure 2 est une vue en
plan d'une cible de Fresnel ayant un dessin utile pour la mise en
oeuvre de l'appareil selon l'invention, lorsque cette cible est formee
a la surface d'une plaquette semiconductrice; la figure 3 represente
la disposition physique des elements optiques utiles dans un appareil
industriel d'exposition de semiconducteurs la figure 4 est une coupe
montrant comment un deplacement lateral de la plaquette provoque un
deplace- ment de la paire d'images ponctuelles; et la figure 5 mont-re
comment une inclinaison lo- cale deplace la paire d'images
ponctuelles.
Sir les dessins, les references identiques desi- gnent des elements
correspondants sur les diverses figures.
La figure 1 represente un appareil de position- nement selon
l'invention associe a un appareil de formation d'image par projection,
permettant la formation de dessins sur une plaquette semiconductrice
La plaquette qui doit etre exposee est reperee par la reference 11 et
l'appareil de projection comprend un objectif principal 13 destine a
former une image d'un reticule 15 sur une partie choisie de la surface
des plaquettes L'appareil de projection repre- sente est suppose Du
type fonctionnant par exposition et repetition dans lequel une image
du reticule 15 est projetee l en formant un dessin qui se repete et
recouvre toute la surface de la piaquette.
Une cible h zone de Fresnel ou lentille de Fres- nel est associce a
cbaque emplacement de projection a la surface de la plaquette Une
telle cible est reperee sur la figure 1 par la ref Lerence 17 mrlais
il faut noter que la dimension du dessin a e-te tr-as exageree a titre
illustratif et que, en pratique, le diamsetre total de la cible peut
etre de l'ordre de 50 microns.
La figure 2 represente un dessin convenable de cible Comme peuvent le
noter les hommes du metier, cette cible est formee par exemple avec le
premier dessin glo- bal forme a la surface de la plaquette si bien
qu'il peut etre utilise comme reference au cours des operations suc-
cessives du processus de fabrication des circuits integres.
De preference, les cibles 17 de Fresnel sont placees loin de la partie
de la surface qui doit former les surfaces integrees reelles, par
exemple dans les regions de separa- tion formees entre les parties qui
doivent constituer les circuits integres individuels.
Un laser helium neon 21 est destine a eclairer la cible de Fresnel
avec de la lumiere coherente Le laser
21 est de preference d'un type formant de la lumiere pola- risee avec
un seul mode, a une longueur d'onde nettement differente de celle qui
est utilisee pour l'exposition de la plaquette revetue de reserve
photographique Par exemple, dans un mode de realisation de
l'invention, la source lumi- neuse qui expose la reserve a travers le
reticule forme de la lumiere a une longueur d'onde de 436 manometres,
et le laser 21 fonctionne a une longueur d'onde de 633 nano- metres.
La lumiere du laser 21 est dirigee, par un repar- titeur polarisant 23
de faisceau et une lame quart d'onde
, vers un miroir 27 place sur le bord du reticule 15.
Le miroir 27 renvoie la lumiere du laser vers le bas, a travers
l'objectif principal 13 de projection, sur la sur- face de la
plaquette semi-conductrice 11, dans la region de la cible 17 de
Fresnel La diffraction de la lumiere coherente incidente par la cible
17 forme deux images ponc- tuelles, une image reelle placee au-dessus
de la surface de la plaquette et reperee par la reference PA, et une
image virtuelle reperee par la reference PB et qui se trouve sous la
surface de la plaquette Une partie au moins de la lu- miere diffractee
par la cible de Fresnel 17 est collectee parl'objectif 13 de
projection et les images ponctuelles i
PA et PB forment de nouvelles images dans la colonne op- tic. Comme
peuvent le noter les hommes du metier, l'objectif de projection 13 a
subi une correction tres pous- see pour la longueur d'onde utilisee au
cours de l'exposi- tion de la reserve photographique, mais sa distance
focale peut etre notablement differente aux autres longueurs d'onde.
Dans le mode de realisation particulier represente, la dis- tance
focale, pour la longueur d'onde du laser 21, est sup- posee nettement
superieure a celle qui correspond a la lon- gueur d'onde de la
longueur d'exposition, si bien que les nouvelles images ponctuelles se
trouvent en dehors des co- lonnes de projection Ces nouvelles images
ponctuelles por- tent les references PA' et PB' respectivement.
Comme peuvent le noter les hommes du metier, la partie de la lumiere
du laser qui est diffusee par la surface de la plaquette et qui
revient vers le miroir 27 par l'intermediaire de l'objectif 13,
lorsqu'elle a tra- verse la lame quart d'onde 25, est polarisee si
bien que la plus grande partie de la lumiere renvoyee passe direc-
tement a travers le repartiteur 23 polarise au lieu d'etre renvoyee
vers le laser 21.
Un objectif relais 31 dirige la lumiere prove- nant des images
ponctuelles PA' et PB' dans un repartiteur de faisceau 33 La distance
separant PA' de l'objectif 31 est choisie afin qu'elle soit a peu pres
ecale a la distance focale de l'objectif 31 si bien que la lumiere
penetrant dans le repartiteur de faisceau a partir de l'image ponc-
tuelle PA' est pratiquementcollimatee La partie de cette lumiere qui
est dirigee vers le bas est focalisee en 35 a nou- veau afin qu'elle
forme une image ponctuelle PA" Cette image ponctuelle forme elle-meme
une nouvelle image apres passage dans un objectif 37, sur un detecteur
photoelectri- que 41 a quadrants.
La distance focale de l'objectif 37 est choisie afin qu'elle assure un
grandissement supplementaire d'envi- ron 10/1, le grandissement total,
comprenant l'objectif principal 13 de projection, etant d'environ
100/1 Il s'agit du grandissement efficace relatif au deplacement
lateral de la cible de Fresnel 17.
Au lieu de colimater la lumiere provenant du point image PB',
l'objectif 31 la refocalise sous forme d'une autre image ponctuelle
PB", le trajet suivi par la lumiere entre temps ayant ete renvoye vers
le-bas par un miroir 39 L'image ponctuelle PB" forme elle-meme une
nou- velle image dans un objectif 38, sur un detecteur photoelec- tric
43 a quadrants La distance focale de l'objectif
38 est choisie, par rapport a la distance focale de l'ob- jectif 31,
de maniere que le grandissement total donne sur le detecteur 43 soit
pratiquement egal a celui qui est obte- nu sur le photodetecteur 41
Cependant, l'egalite exacte n'est pas necessaire puisque les
sensibilites des deux de- tecteurs a quadrants, dans le cas d'un
deplacement lateral de la plaquette, sont de preference adaptees par
traitement ulterieur des signaux.
Le systeme optique est aligne de maniere que, lorsque la plaquette 11
est convenablement disposee, les images qui sont formees a nouveau a
partir des images ponc- tuelles PA et PB soient centrees sur les
photodetecteurs respectifs, dans l'hypothese o la surface de la
plaquette ne presente aucune inclinaison Comme peuvent le noter les
hommes du metier, les detecteurs 41 et 43 sont des disposi- tifs qui
comportent quatre photodetecteurs photoelectriques, par exemple des
photodiodes, et qui detectent ainsi le de- placement d'un point par
rapport au point central, suivant deux axes transversaux Les signaux
de sortie des deux de- tecteurs 41 et 43 parviennent a des circuits
electroniques convenables 45 de sommation et d'asservissement qui com-
mandent des appareils de micropositionnement d'axe X et d'axe Y
assurant le reglage de la position laterale de la plaquette 11 par
rapport a l'appareil de projection L'ap- pareil de micropositionnement
d'axe X est repere par la reference 47 L'appareil de
micropositionnement d'axe Y n'est pas represente mais il est oriente,
comme peuvent le noter les homliez du metier, afin qu'il donne un
depla- eement suivant l'axe transversal Lorsque la plaquette, bien que
parfaitement plane, est deplacee lateralement, les deux images
relayees sont decalees dans le meme sens sur les detecteurs
photoelectriques respectifs a quadrants.
Ainsi, les signaux provenant des deux photodetecteurs don- nent des
informations qui peuvent etre utilisees comme si- anaux d'erreur pour
le positionnement Il faut noter que les circuits electroniques de
sommation et d'asservissement peuvent etre analogiques ou numeriques
et, lorsqu'ils sont numeriques, ils peu 'nt etre incorpores a un
ensemble global de comtmande X ordinat-ur, de plus en plus courant
dans les ensembles de ce type.
Selon l'iltvention, un signal representant la somme des deux ignaux
des detecteurs est utilise pour la commande du positionneme-nrt de la
plaquette Comme l'indique la fiqure 4, un duplae ment de la plaquette
11 vers la droite provoque un deplacemenk des deux images ponctuelles
PA et PB du premier ordre vres la droite aussi, c'est-a-dire qu'elles
se deplacent toutes deux dans le meme sens par rapport a la position
nominale voulue reperee par le trait d'axe Ainsi, on note quii
convient d'utiliser la somme des signaux de sortie des deux
photodetecteurs qui sont sensibles au deplacemrent des images
ponctuelles relayees ou reformees D'autre part, une inclinaison locale
de la surface de la plaquette comme indique sur la figure 5 pro- voque
un deplacement de l'image reelle PA (au-dessus de la surface de la
plaquette) vers la gauche et un deplace- ment de l'Jimage virtuelle
(au-dessous de la surface de la l' plaquette) vers la droite On peut
donc noter que, si l'on utilise la seule image reelle pour la commande
de position dans un appareil asservi, il apparait une erreur de trans-
lation suffisante pour que l'image prenne la position voulue a la
place du centre de la cible de Fresnel comme voulu.
Cependant, comme 1 image virtuelle formee sous la surface de la
plaquette se deplace en sens oppose, du fait de l'in- clinaison
locale, In signal d'erreur d'asservissement, cor- respondant a la
somme des deplacements, convenablement pcrnde- res,est pratiquement
insensible aux faibles variations d'in- clinaison locale tout en etant
sensible au deplacement en translation de la cible de Fresnel.
Lorsque la lumiere coherente parvenant sur la cible de Fresnel est
colimatee, la hauteur de l'image reelle PA au-dessus de la surface de
la plaquette est egale a la profondeur de l'image virtuelle PB
au-dessous de la surface, et leurs deplacements lateraux, en presence
d'une incli- naison locale, sont egaux et opposes Cette egalite n'est
pas indispensable selon l'invention, puisque les sensibilites des deux
photodetecteurs sont normalisees pour d'autres raisons et qu'une meme
normalisation ou egalisation peut prendre en consideration les
distances verticales differen- tes des -images ponctuelles par rapport
a la cible de Fresnel.
En fait, dans le mode de realisation represente, la lumiere coherente
incidente n'est pascollimatee du fait de la pre- sence de l'objectif
13 Bien que cet effet puisse etre neu- tralise par utilisation d'un
objectif compensateur avant introduction du faisceau laser dans la
colonne de projection, il n'y aucune raison d'utiliser une telle
complication puis- qu'un reglage de la sensibilite, assurant la
compensation, peut etre effectue lors de la normalisation des signaux
des photodetecteurs.
La figure 3 represente un mode de realisation convenant en pratique
pour la mise en oeuvre de l'invention, correspondant a un appareil de
formation d'image microlitho- graphique par exposition et repetition
du type " 4800 " de
Burlington Division, GCA Corporation, Bedford, Massachusetts.
Cet appareil du commerce a un rapport de projection de 10/1 entre le
reticule 15 et la plaquette 11 Dans l'arrangement represente sur la
figure 3, le rayonnement du laser 21 est renvoye par deux miroirs 61
et 63 avant d'entrer dans le repartiteur polarisant 23 et, apres avoir
traverse la lame quart d'onde 25, le rayonnement rencontre un miroir
sup- plementaire 65 qui renvoie le faisceau vers le haut dans le
miroir 27 monte pres du reticule 15 Le rayonnement qui revient, apres
avoir quitte le repartiteur 23, est ren- voye par les miroirs 67 et 69
places de part et d'autre de l'objectif 31 Le reste du systeme optique
est place pratiquement comme represente sur la figure 1, mais l'ob-
jectif 38 precede le miroir 39 au lieu de le suivre sur le chemin
optique Dans cette realisation matereille par- ticuliere, les
distances focales des differents, objectifs sont les suivantes
Objectif N O Distance focale 49,1 mm 31 40 mm 10 mmn 37 1,6 mm 38 10
mmn Il est bien entendu que l'invention n'a ete decrite et representee
qu'a titre d'exemple preferentiel et qu'on pourra apporter toute
equivalence technique dans ses elements constitutifs sans pourautant
sortir de son cadre.
Claims
_________________________________________________________________
REVENDICATIONS
1 Appareil de-positionnement precis de plaquettes semi-conductrices
ayant des reperes a cible de Fresnel (17), ledit appareil etant
caracterise en ce qu'il comprend: des dispositifs de positionnement
(47)a com- mande electrique destines a regler la position de la pla-
quette (11), un premier et un second detecteur photoelectri- ques (41,
43 X, un dispositif (21) de projection de lumiere coherente sur les
reperes (17) afin que des images ponc- tuelles respectives (PA, PB)
soient formees au-dessus et au-dessous de la surface de la plaquette,
un dispositif (33) utilisant la lumiere renvoyee par les reperes et
destine a projeter chaque image ponctuelle sur un detecteur respectif
afin que chaque detecteur forme un signal de sortie representatif
d'une composante d'erreur qui indique la position de l'image
ponctuelle projetee res- pective par rapport au detecteur, et un
dispositif- de projection de lumiere coherente sur les reperes afin
que des images ponctuelles 1 Pre P'iucr:and iut Er par diffraction
au-dessus - aud soscla s-uriace de 'La plaquette, un uipoitf tui-1
sant la lumiere dif- fractee par les r-eper,s et C sind a projecter
chaque image:-onctueile sur u N C 6 tecteur re Cpetif a quadrants,
avec des granid-isseirent 8 pictiqueineriL e'gaux, de maniere que les
etecteursa quadrai Ts fori-mei 7 t c i-,iacu Ln des signaux de sortie
comprenant de 3 composantes dlerreu r qui indiquent la posi- tion de I
imge onctuelle projetee respective par rapport au de tur, et un dci
11::p-o LII- F I 4-5) commtrande par une somme des signaux creies par
Th - S ede, x eter et destine a commander chacun des disposaitif dle
pstonm afin qu 2 ils re- cherchent une positi on, le long de l'axe
correspondant, dans laquelle 'les cwoatsderu des signaux sont egales
et opposees.
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