close

Вход

Забыли?

вход по аккаунту

?

Шахнов Вадим Анатольевич

код для вставкиСкачать
Аналитический обзор значимых разработок и их
связи с учебным процессом по тематическому
направлению деятельности национальной
нанотехнологической сети «Наноинженерия»
Заведующий кафедрой МГТУ им. Н.Э. Баумана, д.т.н.,
профессор Шахнов Вадим Анатольевич.
Тел. (499) 263-6552 E-mail: shakhnov@mail.ru
Наноинженерия
(англ. Nanotechnological engineering,
Nanoengineering) – междисциплинарная
область фундаментальной и прикладной
науки и техники, предметом которой
являются исследования, проектирование и
совершенствование методов разработки,
производства и применения
интегрированных систем, основанных на
законах и принципах нанотехнологий и
микросистемной техники.
РАЗВИТИЕ НАУЧНОГО
ОБРАЗОВАТЕЛЬНОГО ЦЕНТРА (НОЦ
«Наноинженерия»)
Уровень университета: НОЦ – как центр коллективного пользования уникальными
методиками и оборудованием для решения прорывных задач в рамках
внутригосударственной и международной научной кооперации.
Уровень факультета:
НОЦ – как научнообразовательная
инфраструктура
обеспечения
межкафедральных
учебных
курсов, НИОКР и
проектов СНТО.
Уровень кафедры:
НОЦ – как образовательная инфраструктура подготовки кадров на
основе проектных
методов обучения.
Трехуровневая модель кадровой инфраструктуры НОЦ наноиндустрии
Региональные
программы, РФФИ
Университетский НОЦ
(региональный
и межуниверситетский)
Программы инвест.
и инновац. фондов
Международные
программы
Университетский (региональный) уровень
Создается кооперацией региональных, межрегиональных
и международных участников ННС, оснащен единичным
уникальным оборудованием, ориентирован на выполнение
фундаментальных прорывных исследований, подготовку и
переподготовку кадров высшей квалификации.
Уровень факультета
Тематические
НОЦ
по направлениям
Профильные
НОЦ
(по профилям подготовки,
осуществляемых кафедрами)
Создается кооперацией факультета (ведущего подготовку по
направлениям наноиндустрии) и партнеров – организаций ННС,
оснащен серийным нанотехнологическим опытно-экспериментальным
оборудованием, проводит заказные НИОКР, подготовку и переподготовку
кадров (отдельные группы по заказу партнеров по кооперации),
а также «бакалавров-магистров» и кадров высшей квалификации
Уровень кафедры
Создаются при кафедрах, ведущих подготовку по профилям направлений
и специализациям наноиндустрии согласно ГОС 3-ого
поколения, укомплектованы учебным и опытно-исследовательским
оборудованием, осуществляют подготовку и переподготовку по
программам инженерного образования, проводит НИОКР,
обеспечивает разработку учебно-методического контента и
реализацию проектных методов обучения специалистов наноиндустрии
Структура управления кадровой инфраструктурой
Уровни управления
Кадровая инфраструктура НОЦ
Программы
Минобрнауки
Пилотный проект МГТУ им.Н.Э.Баумана
ПЕРСПЕКТИВНАЯ ИНФРАСТРУКТУРА
НОЦ «Наноинженерия» МГТУ им. Н.Э.Баумана
НОЦ факультета
«Информатика и систем
управления»
ЦКП
«Учебноинженерный
центр
нанотехнологий,
нано- и
микросистемной
техники»
СНТО
НОЦ
кафедр
Учебно-исследовательские
лаборатории
НОЦ
кафедр
НОЦ
кафедр
НОЦ факультета
«Машиностроительные
технологии»
СНТО
НОЦ
кафедр
Учебно-исследовательские
лаборатории
НОЦ
кафедр
НОЦ
кафедр
НОЦ факультета
«Специальное
машиностроение»
СНТО
НОЦ
кафедр
Учебно-исследовательские
лаборатории
НОЦ
кафедр
НОЦ
кафедр
НОЦ факультета
«Робототехника и комплексная
автоматизация»
СНТО
НОЦ
кафедр
Учебно-исследовательские
лаборатории
НОЦ
кафедр
НОЦ
кафедр
Инновационная образовательная инфраструктура
Структура и состав НОЦ на различных уровнях формирования компетенций
НОЦ факультета «Радиоэлектронная, лазерная
и медицинская техника»
СНТО
НОЦ
кафедр
Учебно-исследовательские
лаборатории
НОЦ
кафедр
НОЦ
кафедр
НОЦ факультета
«Энергомашиностроение»
СНТО
НОЦ
кафедр
Учебно-исследовательские
лаборатории
НОЦ
кафедр
НОЦ
кафедр
ПЕРВЫЙ УРОВЕНЬ – УНИВЕРСИТЕТСКИЙ НОЦ (ЦКП)
(обеспечение подготовки кадров высшей квалификации,
фундаментальные и прикладные исследования)
В 2006-2008 годах в МГТУ им. Н.Э .Баумана по проекту «Нанотехнологическая
база микросистемной техники» инновационной образовательной программы
«Научное и кадровое обеспечение инновационного развития технических
систем, объектов и технологий, отвечающих требованиям мирового уровня и
качеству, надежности и безопасности», реализуемом в рамках национального
проекта «Образование» создан «Учебно-инженерный центр нанотехнологий,
нано- и микросистемной техники» (центр коллективного пользования).
Лаборатория
микроскопии
Лаборатория
наноструктур и
материалов
Лаборатория
спектроскопии
Структура и состав НОЦ на различных уровнях формирования компетенций
Лаборатория
нанооптики
Структура центра
Отдел
наноструктур и
наноматериалов
Отдел
теоретических
исследований
проблем
нанотехнологий
Лаборатория
технической
Научное руководство
поддержки
центра учебно-научных
Научно-координационный
работ
совет по наноинженерии
Отдел
наноэлектроники,
нано- и
микросистем
Лаборатория
информационной
поддержки
учебно-научных
работ
Отдел
нанооптоэлектроники
Оперативное руководство
центра - Директор
Отдел
вакуумноплазменных
методов в
нанотехнологиях
Отдел
гель-структур и
наногидротехнологий
Отдел
сложных
наноструктурированных
систем
Нанотехнологический комплекс «Нанофаб-100»
(Россия)
ионно-лучевое травление, с помощью
остросфокусированного ионного пучка;
сверхлокальное препарирование гомогенных
и гетерогенных объектов и анализ их
внутреннего строения с использованием
различных видов контрастов;
ремонт и реконструкция объектов МЭМС и МСТ
приборов;
изготовление объёмных и планарных микрои наноразмерных объектов.
нанолитографические операции и
наноманипуляции с помощью зондовых
методов
Планируемые работы:
Исследование диффузионных процессов в
гетероструктурах для нанодиодов и транзисторов.
Исследование свойств антидиффузионных покрытий для
полупроводниковых материалов Bi2Te3.
Исследование углеродных волокон с осажденными
нанотрубками.
Исследование 3D структур для устройств на ПАВ (РЧИДы).
Ионно-плазменная электродуговая установка с вращающимися катодами для
нанесения наноструктурных покрытий на металлы Platit π-80 (Швейцария)
нанесение наноструктурных покрытий различного
класса для различных деталей и узлов
микросистемной техники:
однослойные, многослойные, наноградиентные,
нанослойные, нанокомпозитные, комбинации этих
покрытий (TiN, TiAIN, AITiN, nACRo, TiCN-MP, TiAICN).
барьерные (антидиффузионные) покрытия на детали
МЭМС и МСТ-приборов, упрочняющие покрытия на
детали приборов, антикоррозионные покрытия,
биосовместимые
покрытия, алмазоподобные,
бактерицидные покрытия.
Планируемые работы:
Нанесение защитных антидиффузионных покрытий на полупроводниковые
элементы Bi2Te3.
Нанесение бактерицидных покрытий на изделия медицинской техники.
Нанесение износостойких и антикорозионных покрытий.
Ионно-плазменная электронно-лучевая установка для нанесения
различных наноструктурных покрытий на металлы и неметаллы
Leybold Univex-300 (Германия)
Нанесение тонких пленок методом
электронно-лучевого испарения широкой
номенклатуры материалов на опытные и
макетные образцы деталей
приборостроения, электроники,
нанооптоэлектроники и др.
Автоматическая установка реактивно-ионного и
плазмохимического травления «КАРОЛИНА 15»
изготовление рельефно-фазовых голограммных
оптических элементов (ГОЭ), дифракционных
оптических элементов ( ДОЭ) и киноформных
оптических элементов (КОЭ) на стеклянных и
полупроводниковых пластинах диаметром до
200 мм
методами плазмохимического, ионнохимического
травления и плазмостимуллированного осаждения
слоёв
предельный вакуум в рабочей камере 2,5*10-4 Па
количество каналов рабочих газов (шт.) до 9, из них 4х
каналов агрессивных газов (Cl2Si2Cl4, и др.)
диаметр обрабатываемых изделий до 200 мм
равномерность на Ø150 мм при травлении SiO2 ±1 (%)
Планируемые работы:
Исследование и получение нанооптоэлектронных элементов
методами лазерной литографии и ионно-плазменного травления.
Лазерная установка для микрогравировки оптических
деталей и материалов KineMax HighSec
создание 2D/3D стереограмм, получение
полноцветных голограмм (true colour)
и
голограмм с наличием кинематических
эффектов, скрытых единичных и
анимированных изображений, микротекстов
размером от 20 микрометров,
специальных
текстурных изображений, рельефного 2D/3D
фона;
создание защитных голограмм с
комбинированием всех свойств и
особенностей, а также возможность их
создания различного
графического файла.
Планируемые работы:
Разработка и исследование нанооптоэлектронных
элементов для системы голографической памяти:
-дифракционные оптические элементы;
-голографические оптические элементы;
-зеркальные дифлекторы;
-структуры типа МОЭМС.
размера из одного
Сверхвысоковакуумный сканирующий зондовый
микроскоп JSPM-4610, фирма JEOL (Япония)
исследования свойств поверхности
образцов наноструктурных материалов и
нанообъектов при атмосферном давлении
и в условиях сверхвысокого
вакуума
-8
(10 Па);
подготовка образцов прямым и
непрямым нагревом, а также ионной
бомбардировкой в среде аргона
получение рельефа поверхностей с
разрешением от атомарного 0,1 нм до 1-10
мкм;
исследование химических и
физических свойств поверхности с
разрешением 1 нм – 10 мкм; осаждение
пленок металлов (Au, Ag, Cu, Al, Ti, Ni и
др.). Техпроцессы нанолитографии с
разрешением менее 5 нм.
Планируемые работы:
Исследование диффузионных процессов в гетероструктурах для нанодиодов и транзисторов.
Исследование свойств антидиффузионных покрытий для полупроводниковых материалов
Bi2Te3.
Исследование углеродных волокон с осажденными нанотрубками.
Исследование 3D структур для устройств на ПАВ.
Растровый электронный микроскоп TESCAN VEGA II с
системой микроанализа INCA Energy 350 (Чехия)
анализ химических элементов следующих в
периодической системе химических элементов за
бериллием (Be);
разрешение - 3 нм при ускоряющем напряжении в
колонне 30 кВ;
увеличение - от х4 до х1 000 000;
ускоряющее напряжение - от 200 В до 30 кВ;
ток электронного луча - от 1 пА до 2 мкА;
рабочее значение вакуума - 5x10-3 Па.
Световой оптический микроскоп Leitz-Metallovert (Германия)
разрешающая способность до 0,2 мкм;
полезное увеличение:
Nпол= 500 А - нижний предел полезного увеличения
Nпол= 1000 А - верхний предел полезного увеличения
глубина резкого изображения 0,65 мкм
Спектроскопический эллипсометр IR-VASE® J. A.
Woollam Inc (США)
исследование физико-химических свойств
диэлектриков, полупроводников, полимеров и
металлов;
определение толщины и химического состава слоев
при толщине от долей нм до 100 мкм;
определение коэффициента преломления слоя в
инфракрасном диапазоне волн;
определение коэффициента оптического поглощения
в инфракрасном диапазоне волн;
определение концентрации (легирующей) примеси
и других свойств материала, связанных с
изменением оптических постоянных отраженного
света.
Планируемые работы:
Исследование свойств антидиффузионных покрытий для полупроводниковых материалов
Bi2Te3.
Исследование диффузионных процессов в гетероструктурах для нанодиодов и транзисторов.
Профилометр "Профи-130" (Россия)
измерение 22 параметров шероховатости
(высотные, шаговые, угловые, длинномерные,
качественные) и 4
параметров волнистости
наружных и внутренних
поверхностей.
размеры измеряемых высот неровностей от 0
до 350 мкм, точность измерения 0,1...0,5 мкм на
Сканирующий мультимикроскоп
СММ 2000 (Россия)
длине 0,5…12,5мм.
возможность работать в режимах
сканирующего туннельного и атомносилового микроскопов
максимальное поле сканирования 15 мкм х
15 мкм с размахом высот до 2 мкм;
разрешение в режиме СТМ по плоскости XY
до 0,3 нм, по вертикали Z до 0,1 нм;
разрешение в режиме АСМ по плоскости XY
до 1нм, по вертикали Z до 0,3 нм.
Профилометр – профилограф Formcorder SEF3500
обеспечение автоматического контроля параметров
шероховатости и формы поверхности исследуемых образцов
диапазон измерения, мм по Y – 50 по X – 100
погрешность измерения, мм Y±0,2% / 5 X±0,1% / 5
разрешение, мкм 0,1 по X
увеличение, кратность 1-200 по X и Y
скорость подачи, мм/с 0,02 – 2 при измерении 0,02 – 10 при
возврате
прямолинейность 5 мкм на 100 мм
щуп карбид вольфрама радиус R = 25 мкм усилие 0-30 мН
Многоспектральный комплекс «OPHIR»
определение мощности, энергии и длины волны лазерного
и оптического излучений
диапазон измерения мощности - от 0,06 до 3 Вт
точность измерения мощности ±3 %
диапазон измерения энергии от 0,015 до 2 Дж
время установления измеряемого значения (0-95%) 1,5 сек
Универсальные испытательные машины:
Zwick/Roell - Z100, укомплектованная термокриокамерой Maytec (80…+250 С) и печью НТО-02 Maytec (до 1600 С)
Zwick/Roell - Z050, укомплектованная печью НТО-08/1 Maytec (до 1000 С)
(Германия)
Универсальная испытательная машина Galdabiny Quasar – 50 (Италия)
Базовые кафедры НОЦ:
1. Технология приборостроения
2. Теплофизика
3. Метрология и взаимозаменяемость
4. Материаловедение
5. Прикладная механика
6. Ракетные двигатели
7. Проектирование и технология производства электронной аппаратуры
8. Ракетно-космические композитные конструкции
9. Оптико-электронные приборы научных исследований
10. Вакуумная техника
11. Физика
12. Химия и др.
Организации – потребители подготовленных кадров.
ФГУП «МОКБ «Марс»; ФГУП ЦНИИ «Комета»; ФГУП «Центр эксплуатации
объектов наземной космической инфраструктуры»; ОАО
«Радиотехнический институт им. ак. А.Л. Минца»; ФГУП»НПП ВНИИЭМ»;
ОАО «НИИРП»; ОАО «Альтаир»; ОАО «Концерн «Вега»; ФГУП «НПИ ИТ»;
ФГУП «ЦНИРТИ им. ак. А.И. Берга»; ФГУП «ФНПЦ «Прибор»; ФГУП «РНИИ
КП»; ОАО «Зенит»; ОАО «НПП «ЭлТом»; ОАО «МЗ «Сапфир»; ОАО «АО
САМ»; ФГУП «ФНПЦ «Прибор»; ОАО МНПО «Спектр»; ОАО «Альтоника» и
др.
Учебные курсы в области нанотехнологий:
1. Элионные технологии
2. Физические основы наноэлектроники
3. Элементы и приборы наноэлектроники
4. Специализированные технологические методы в нанотехнологиях
5. Технологические системы в производстве наноэлектронных приборов
6. Методы диагностики в нанотехнологиях
7. Основы проектирования и производства микроэлектромеханических
устройств
8. Нанотехнологии
9. Компьютерное моделирование нанотехнологических процессов
10. Наноматериалы в РЭС
11. Вакуумная и плазменная электроника
12. Вакуумная техника
13. Микроэлектромеханические устройства
14. Нанотехнологические процессы и оборудование
И др.
Учебники и учебные пособия, изданные в МГТУ им. Н.Э. Баумана
1. Электронный учебник по нанотехнологиям. Компьютерный тренажер.
2. Наноматериалы РЭС: Ч. 1. Свойства нанослоев и нанонитей.
3. Наноматериалы РЭС. Ч. 2. Свойства нанотрубок, наночастиц и
нанокомпозитов.
4. Нанотехнология и микромеханика:. Ч. 4. Зондовые технологии.
5. Углеродные нанотрубки.
6. Введение в инженерную нанотехнологию.
7. Физические основы электронных технологий.
8. Специальные технологические методы в нанотехнологии РЭС. Ч. 1.
Молекулярно-лучевая эпитаксия нанослоев, нанонитей и наночастиц.
9. Физические принципы формирования надежных электронных приборов
на основе нанотехнологий. Ч 1. Уравнения распределения вероятностей
безотказной работы в фазовом пространстве.
10. Основы проектирования и производства электромеханических
устройств. Ч. 1. Контактная сварка элементов
микроэлектромеханических устройств и интегральных схем
11. Наноматериалы для электронных средств. Ч.1 и 2. Подготовка
сканирующего туннельного микроскопа к исследованию материалов.
И др.
Научные разработки, выполненные в НОЦ
Ф от онные к рист аллы на основе опаловых наност рук т ур
Наност рук т уры на основе опаловых мат риц
Ф от онные к рист аллы
Двухмерные фот онные к рист аллы
Трехмерные фот онные к рист аллы
Планарные т ехнолог ии
фомирования 3- D
наност рук т ур
Ф ормирование 3- D
наност рук т уры на основе
опаловых мат риц
Ф от онная запрещенная зона
2 d sin
Наноструктурированные упрочняющие
тонкопленочные покрытия на инструменте
а
б
в
Электронно-микроскопическое изображение (а),
электроннограмма (б) и топография поверхности (в)
пленки Ti-Al-B-N с размерами кристаллитов порядка 1
нм
Обрабатываемый материал - 12Х18Н10Т, диаметр сверла - 4.2 мм, материал
сверла - Р18, толщина обрабатываемого материала 15 мм
Время сверления контрольного
отверстия, сек
300
250
Без покрытия
200
TiN
150
TiBCrN
TiBN+20%Si
100
TiBSiN
50
0
0
20
40
60
80
Количество просверленных отверстий, шт
100
Разработка трёхслойного фильтра Фабри-Перо
На стеклянную пластинку нанесена структура из слоя окисла кремния
(SiO2), расположенного между двумя тонкими слоями металла (Al или Au).
Слой окисла кремния (SiO2) обладает пьезоэлектрическим эффектом и
способен изменять геометрические размеры под действием приложенного к
нему электрического поля. Таким образом, изменяется расстояние между
слоями металла (Al или Au), что позволяет осуществлять сканирование
спектра в диапазоне 380–780 нм.
Трехслойный
фильтр
Селективная фильтрация
– спектральное разрешение,
, … – избираемые длины волн
Применение: спектрометры, датчики и др.
ТРЕТИЙ УРОВЕНЬ – НОЦ КАФЕДРЫ
(подготовка по профилям направлений ФГОС)
В 2008 году подготовлен технический проект НОЦ «Нанотехнологические системы»,
направленный на создание методической и материально-технической базы подготовки специалистов по направлению «Нанотехнологии» с профилем подготовки
«Наноинженерия». НОЦ включает в свой состав учебно-исследовательские лаборатории, обеспечивающие реализацию проектных методов обучения по блокам
дисциплин и студенческое КБ «Наносистемы».
Проектирование
структуры компонентов
наносистем
Модуль дисциплин:
«Исследовательские
микро- и
наноизмерительные
системы»
(микроскопия)
Модуль дисциплин:
Технологические
системы
формирования
наноструктур»
Модуль дисциплин:
Формирование структуры
(магнетрон)
«ИКТ и САПР
микро- и наносистем»
Модуль дисциплин:
«Комплекс
испытаний,
сертификации и
метрологических
исследований микрои наносистем»
Подготовка бакалавров
Методическая и материально-
Формирование структуры
(осаждение)
Модуль дисциплин:
«Исследовательские
микро- и
наноизмерительные
системы»
(микроскопия)
Формирование структуры
(литография)
Модуль дисциплин:
Функциональное
тестирование
(зондовая станция)
Технологические
системы
формирования
наноструктур»
Измерения и контроль
качества
(микроскопия)
Испытания
и сертификация
Модуль дисциплин:
«ИКТ и САПР микрои наносистем»
модуль дисциплин:
«Комплекс испытаний, сертификации и
метрологи-ческих
исследований микро- и наносистем»
Подготовка магистров
техническая база НОЦ
Лаборатория «Микроскопии»
Лаборатория «Микроскопии» специализируется на проведении
исследований микро- и наноструктур. Среди разработок лабораторий:
электрохромные покрытия оптических систем, дефектоскопия
CD/DVD дисков, фильтры Фабри-Перо высокой разрешающей
способности, нейросетевые методы распознавания изображений при
дефектоскопии проводящих микро- и наноструктур, активные
виброзащитные системы нанотехнологических и измерительных
комплексов и т.п.
Лаборатория Микроскопии укомплектована современным
измерительным оборудованием с высоким разрешением:
- Сканирующими зондовыми микроскопами (СЗМ)
- Оптическими микроскопами Intel
- Научно-исследовательским сканирующим зондовым
микросокпом Solver P47 - Pro
- Сканирующим туннельным микроскопом производства
концерна Наноиндустрия
- Спектроэлипсометром «Эльф» концерна Наноиндустрия.
- Электронным растровым микроскопом.
Учебные программы реализуются при поддержке НИИ
Системных исследований (РНЦ Курчатовский центр») и ФТИАН.
Лаборатория «Формирование наноструктур»
Формирование структуры
(магнетрон)
Формирование структуры
(осаждение)
Формирование структуры
(литография)
Функциональное
тестирование
(зондовая станция)
Измерения и контроль
качества
(микроскопия)
Испытания
и сертификация
Учебно-экспериментальный технологический цикл
формирования компонентов наносистем
Проектирование
структуры компонентов
наносистем
Научно-учебная лаборатория «Формирование наноструктур»
предназначена для обеспечения тестовыми образцами
проектных работ студентов, магистров и аспирантов по
направлениям «наноинженерия» и «наноэлектроника», а также
тест-образцов для проведения лабораторных работ по
микроскопии и оптонаноэлектронике в лабораториях кафедры.
Включает в свой состав несколько малогабаритных
экономичных настольных напылительных установок Scancoat
Six, которые предназначены для проведения лабораторных
работ и начального обучения студентов по использованию
вакуумного нанотехнологического оборудования.
Обеспечивает весь цикл подготовки образцов для
традиционного сканирующего электронного микроскопа (SEM).
Система проста в обращении и может использоваться для
нанесения высококачественных токопроводящих покрытий на
разнообразные образцы.
Учебные программы по специализации «наноэлектроника»
реализуются при поддержке НИИ Системных исследований
(РНЦ Курчатовский центр»).
В рамках лаборатории работает студенческое конструкторское
бюро «Наносистемная техника и наноэлектроника».
Лаборатория «САПР наносистем»
Лаборатория «САПР наносистем» реализует образовательные
программы
подготовки
специалистов
по
направлению
«Наноинженерия и наноэлектроника» и включает в себя весь спектр
необходимого программного обеспечения для моделирования
наносистем.
Задачи
моделирования
элементов
МЭМС
и
НЭМС,
тонкопленочных
и
наноразмерных
структур
решаются
с
использованием таких средств САПР как ANSYS, COMSOL (метод
конечных элементов); APSYS (метод конечных элементов для
полупроводниковых наноструктур); IntelliSuite (полный цикл
разработки МЭМС), CODE V (оптическое моделирование), MatLab
(математическое
моделирование),
CADENCE
(проектирование
приборов и систем), Mentor Graphics (проектирование электронных
приборов
и
устройств),
SYNOPSYS
(схемотехническое
проектирование), TCAD - SYNOPSYS (приборно-технологическое
моделирование полупроводниковых структур), PTC Software and
Services (САПР электронно-механических систем), Solidworks (САПР
конструкционных систем), PROLITH (комплекс моделирования
литографии компании KLA-Tencor).
Сеточная модель кантилевера СЗМ
Учебные программы реализуются при поддержке НИИ
Системных исследований (РНЦ Курчатовский центр») и РНИИ КП.
Запланированные к изданию учебно-методические
материалы:
1.
МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ по формированию требований к результатам освоения
основных образовательных программ подготовки бакалавров и магистров по профилю
подготовки «Наноинженерия»
2.
СБОРНИК НОРМАТИВНЫХ ДОКУМЕНТОВ: базисный учебный план и примерные
образовательные программы подготовки бакалавров и магистров по профилю подготовки
«Наноинженерия»
3.
МЕТОДИЧЕСКИЕ РЕКОМЕНДАЦИИ по организации учебного процесса бакалавров и
магистров по очно-заочной (вечерней) и заочной формам обучения по профилю подготовки
«Наноинженерия»
4.
МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ по формированию требований к материально-техническому
оснащению учебного процесса бакалавров и магистров по профилю подготовки
«Наноинженерия»
5.
МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ по организации научно-исследовательской работы студентов,
обучающихся по программе бакалавров и магистров по профилю подготовки
«Наноинженерия»
6.
МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ по организации и проведению итоговой государственной
аттестации бакалавров и магистров по профилю подготовки «Наноинженерия»
7.
МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ по формированию примерных программ выполнения
экспериментов на специализированном учебно-научном оборудовании для бакалавров и на
уникальном оборудовании для магистров по профилю подготовки «Наноинженерия»
8.
МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ по формированию фондов оценочных средств,
позволяющих оценить знания, умения и уровень приобретенных компетенций
бакалавров и магистров по профилю подготовки «Наноинженерия»
9.
МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ по использованию и пополнению фондов оценочных
средств для бакалавриата и магистратуры по профилю подготовки
«Наноинженерия»
10. МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ по формированию учебно-методического обеспечения
повышения квалификации и переподготовки профессорско-преподавательского
состава кафедр, обеспечивающих учебный процесс подготовки бакалавров и
магистров по профилю подготовки «Наноинженерия»
11. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «МЕТОДЫ МИКРОСКОПИИ»
12. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ В
НАНОИНЖЕНЕРИИ»
13. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «ТЕХНОЛОГИИ СИНТЕЗА НАНОСТРУКТУР»
14. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «МЕТОДЫ ЛИТОГРАФИИ В
НАНОИНЖЕНЕРИИ»
15. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «АВТОМАТИЗИРОВАННОЕ
ПРОЕКТИРОВАНИЕ НАНОСИСТЕМ»
16. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по блоку дисциплин «САПР НАНОСИСТЕМ».
17. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «ПРОЕКТИРОВАНИЕ НАНОСЕНСЕРОВ»
18. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «ТЕПЛОВИЗИОННЫЙ КОНТРОЛЬ МИКРО- И
НАНОСИСТЕМ»
19. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «ПРОЕКТИРОВАНИЕ ЭЛЕКТРОННОЙ
ЭЛЕМЕНТНОЙ БАЗЫ НАНОСИСТЕМ»
20. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «ПРОЕКТИРОВАНИЕ ОПТИЧЕСКОЙ
ЭЛЕМЕНТНОЙ БАЗЫ НАНОСИСТЕМ»
21. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «ФИЗИКО-МЕХАНИЧЕСКИЕ КОМПОНЕНТЫ
НАНОСИСТЕМ»
22. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по блоку дисциплин «САПР НАНОСИСТЕМ».
23. УМК «Моделирование МЭМС и НЭМС»
24. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «ЭЛЛИОННЫЕ ПРОЦЕССЫ И
НАНОТЕХНОЛОГИИ»
25. МЕТОДИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ по курсу «СИСТЕМНЫЙ АНАЛИЗ В НАНОИНЖЕНЕРИИ»
ПРОБЛЕМЫ РАЗВИТИЯ НОЦ
1. Отсутствуют нормативные документы по структуре, составу, порядку
функционирования НОЦ (типовые положения, регламенты и т.п.).
2. Сложность с формированием организационно-штатной структуры НОЦ,
Недостаточное внимание учебно-вспомогательному и инженерному персоналу НОЦ.
3. Отсутствуют механизмы функционарования «дуальной системы»
НОЦ – малые инновационные компании (сформированные из сотрудников НОЦ).
4. Не налажен эффективный инфокоммуникационный научный
и методический обмен между НОЦ разных университетов.
5. Отсутствуют программы академической мобильности между НОЦ (взаимные
стажировки, общие магистерские программы и т.п., что реализовано в странах ЕС).
6. Образовательные программы слабо коррелированны с образовательными
программами стран ЕС, особенно в части освоения практических навыков.
7. Практически отсутствуют механизмы стимулирования и привлечения студентов и
аспирантов к научной работе в НОЦ, а те механизмы, которые существуют (например
программы: «УМНИК», Гранты Президента, стипендиальные программы и т.п.)
характеризуются высоким уровнем бюрократизации и избыточностью отчетных
материалов.
Документ
Категория
Презентации
Просмотров
136
Размер файла
10 294 Кб
Теги
1/--страниц
Пожаловаться на содержимое документа